Hydrogen bonding in 2-(2-oxothia­zolidin-3-yl)-4,5-dihydro­thia­zolium hydrogen sulfate monohydrate

Corrêa, R.S.; Doriguetto, A.C.; Ellena, J.; Martins, F.T.; Santos, M.H. dos

doi:10.1107/S0108270108017502

2-（2-氧噻唑烷-3-基）-4,5-二氢噻唑啉硫酸氢一水合物中的氢键

R.S.Corría先生,F.T.马丁斯,J.埃琳娜,M.H.多斯桑托斯和A.C.多利盖托

标题化合物的不对称单位C₆H（H）₉N个₂操作系统₂⁺·HSO公司₄^-·H（H）₂O、含有杂环阳离子、硫酸氢阴离子和水分子。硫酸氢阴离子和水分子之间有很强的氢键，沿[010]方向形成一条无限大的链，阳离子由此而起。将其空间、电子和几何特征与同类化合物进行了比较。这样，就硫酸盐基团对杂环质子化和固态互变异构平衡的影响来说明结构关系。

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支持信息

	晶体学信息文件（CIF）https://doi.org/10.107/S0108270108017502/gd3216sup1.cif 包含全局数据块，I
	结构系数文件（CIF格式）https://doi.org/10.107/S0108270108017502/gd3216Isup2.hkl 包含数据块I

CCDC参考：697587

注释顶部

噻唑烷酮衍生物是药物合成的诱人靶点（Lesyk&Zimenkovsky，2004），因为这些药理活性化合物目前各种生物特性。例如，抗肿瘤（Lesyk等。,2006年），抗微生物（Vicini等。, 2006),止泻药（马佐尼等。2006年），消炎药（Ottaná等。,2005年）和抗氧化活性（清水等。，2002）已经归因于他们。此外，它们对神经性疼痛的治疗也有潜在的用途（清水等。, 2002). 合成与光谱分析的标题化合物（I）已在前面描述过（Hanefeld&Gunes，1986).在本文中，我们报告了（I）的结构（图1）。A相关化合物，双（乙胺嘧啶）的一水合硫酸氢盐，在同一空间群中结晶(P（P）2₁2₁2₁)作为（I）（Devi）et（等）阿尔。, 2006). 因此，硫酸氢阴离子的存在以及水分子可能在这些化合物的组装中起着重要作用。

将（I）的分子内几何参数与剑桥结构数据库（CSD，版本？; Allen，2002）使用莫卧儿（布鲁诺等。,2004).C1-N1[1.408（3）Au]和C1的长度═O1[1.218（3）Au]键是典型的类型[平均值1.40（1）和1.21（2）Ω，分别]。连接两个环的N1-C4键的长度[1.357（3）Ye]与类似化合物1-（5-硝基-1,3-噻唑-2-基）-2-咪唑啉酮中相应键[1.350（5）Ye]的键非常相似（皮特斯等。，1984），这些值都是债券这种类型[平均值1.35（1）Ω]。

每个环采用包络构象，原子C2和C6在2-噻唑酮和2-噻唑基的皮瓣位置。通过以下五个原子的最小平方平面的最大偏差原子C2发生2-噻唑啉酮环[位移0.094（2）Au]环状原子的r.m.s.偏差为0.0682Ω。在2-噻唑基环中，原子C6[0.78（22）Au]的最大位移为r.m.s。偏差0.0547°。环的非平面性源于相邻CH₂每个环内的组（猛禽等。, 1983;科里亚等。, 2006). 平均平面之间的二面角二阳离子中的环只有2.1（2）°，因此总的来说阳离子接近平面的。

在阴离子中，1.539（2）Au的S-OH距离与其他三个S-O距离在1.422（2）–1.437（2）Au范围内，表明氢原子位置是静态的，而不是在O原子。O-S-O键角[103.9（2）–114.2（2）°]是典型的发现于结晶盐中的硫酸氢阴离子中。

（I）的晶体堆积被氢网络强烈稳定债券（表1）。此外，水分子和氢的存在硫酸盐阴离子在分子聚集中起着关键作用，其中阴离子水分子形成一个螺旋链的边缘融合氢键环沿[100]方向运行（图2）。原子O5作为受体来自两个相邻的水分子，而O1W原子作为来自阴离子。阳离子通过强N-H··O氢与阴离子相连键（表1），使得阳离子都依赖于水/阴离子链。

其他含有机阳离子的水合硫酸盐和硫酸氢盐描述了无机成分形成二聚体（Luet（等）阿尔。，2004），连锁店（国美电器等。，1996）或网络二分之一和三维（典狱长等。, 2004; Białoánska&Ciunik，2005).在4-羧苯基高氯酸铵一水合物（Athimoolam和Natarajan，2006年），水分子和阴离子形成边缘融合链氢键合环，类似于这里所报道的（I）。

实验顶部

标题化合物是根据报告程序（Hanefeld&Gunes，1986），其中过氧化氢是用作氧化剂而不是硝酸。棱柱形[插入CIF表格-请澄清]获得了无色的（I）单晶通过乙醚中溶液的缓慢蒸发。硫酸氢和水成分是合成过程的副产品。

计算详细信息顶部

数据收集：收集（诺尼乌斯，2000）；单元格细化：电子秤组件（Otwinowski&Minor，1997）；数据缩减：DENZO公司（Otwinowski&Minor，1997）和电子秤组件（Otwinowski&Minor，1997); 用于求解结构的程序：架子97（Sheldrick，2008）；用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）；分子图形：ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，1997）和水银（麦克雷等。,2006); 用于准备出版材料的软件：WinGX公司（Farrugia，1999年）。

数字顶部

	图1。（I）的结构，显示原子编号方案。取代椭球以50%的概率水平绘制，H原子如下所示任意半径的小球体。虚线表示氢键。
	图2。连接水分子和硫酸氢的氢键阴离子（I）。[对称代码：（i）x个- 1,年,z（z）; （ii）x个- 1/2, -年+ 1/2, -z（z）; （iii）；x个+ 1/2, -年+1/2, -z（z）; （iv）x个+ 1,年,z（z）.]

2-（2-氧噻唑烷-3-基）-4,5-二氢噻唑啉一水合硫酸氢顶部

水晶数据顶部

C类₆H（H）₉N个₂操作系统₂⁺·总部₄S公司⁻·H（H）₂O（运行）	F类(000) = 632
M（M）_第页= 304.36	D类_x个=1.711毫克⁻^三
正交各向异性，P（P）2₁2₁2₁	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
大厅符号：P 2ac 2ab	10761次反射的单元参数
一= 5.8508 (2) Å	θ= 2.9–27.5°
b条= 13.0999 (4) Å	µ=0.65毫米⁻¹
c（c）= 15.4187 (5) Å	T型=294千
五= 1181.84 (7) Å^三	无色针
Z轴= 4	0.14×0.05×0.03毫米

数据收集顶部

Nonius KappaCCD公司衍射仪	2266次反射我> 2σ(我)
CCD扫描	R（右）_整数= 0.056
吸收校正：分析（阿尔科克，1970年）	θ_最大值= 27.5°,θ_最小值= 3.1°
T型_最小值=0.878，T型_最大值= 0.966	小时=−7→7
14972次测量反射	k个=−16→16
2712个独立反射	我=−18→19

精炼顶部

优化于F类²	受约束的氢原子参数
最小二乘矩阵：完整	w个= 1/[σ²(F类_o（o）²)+（0.0645P（P）)²+ 0.1721P（P）] 哪里P（P）= (F类_o（o）²+ 2F类_c（c）²)/3个
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.040	(Δ/σ)_最大值< 0.001
水风险(F类²) = 0.106	Δρ_最大值=0.25埃⁻^三
S公司= 1.03	Δρ_最小值=−0.43埃⁻^三
2712次反射	绝对结构：Flack（1983），1126对Friedel
158个参数	绝对结构参数：−0.04 (10)
0个约束

水晶数据顶部

C类₆H（H）₉N个₂操作系统₂⁺·总部₄S公司⁻·H（H）₂O（运行）	五= 1181.84 (7) Å^三
M（M）_第页= 304.36	Z轴= 4
正交各向异性，P（P）2₁2₁2₁	钼K（K）α辐射
一= 5.8508 (2) Å	µ=0.65毫米⁻¹
b条= 13.0999 (4) Å	T型=294千
c（c）= 15.4187 (5) Å	0.14×0.05×0.03毫米

数据收集顶部

Nonius KappaCCD公司衍射仪	2712个独立反射
吸收校正：分析（阿尔科克，1970年）	2266次反射我> 2σ(我)
T型_最小值= 0.878,T型_最大值=0.966	R（右）_整数= 0.056
14972次测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.040	受约束的氢原子参数
水风险(F类²) = 0.106	Δρ_最大值=0.25埃⁻^三
S公司= 1.03	Δρ_最小值=−0.43埃⁻^三
2712次反射	绝对结构：Flack（1983），1126对Friedel
158个参数	绝对结构参数：−0.04 (10)
0个约束

特殊细节顶部

几何图形所有的e.s.d.（除了两个l.s.平面之间的二面角中的e.s.d.）使用全协方差矩阵进行估计在估计距离、角度的e.s.d.时单独考虑和扭转角；e.s.d.细胞内参数之间的相关性仅为当它们由晶体对称性定义时使用。近似（各向同性）细胞e.s.d.的处理用于估计涉及l.s.的e.s.d。飞机。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
C1类	−0.2155（5）	0.67390 (19)	0.06591 (18)	0.0387 (6)
指挥与控制	0.0215 (7)	0.6715 (3)	0.2066 (2)	0.0718 (12)
过氧化氢	0.1208	0.7213	0.2339	0.086*
过氧化氢	−0.0198	0.6207	0.2496	0.086*
C3类	0.1430 (5)	0.6217 (2)	0.13284 (18)	0.0446 (6)
H3A型	0.2773	0.661	0.1173	0.054*
H3B型	0.1917	0.5536	0.1494	0.054*
补体第四成份	0.0405 (5)	0.5646 (2)	−0.01473（17）	0.0352 (5)
C5级	0.0866 (7)	0.4898 (3)	−0.1634 (2)	0.0620 (9)
H5A型	0.0146	0.4317	−0.1911	0.074*
H5B型	0.1587	0.531	−0.208	0.074*
C6级	0.2599（7）	0.4543 (3)	−0.1011 (2)	0.0725 (11)
H6A型	0.2413	0.3818	−0.0903	0.087*
人6b	0.4121	0.4657	−0.1241	0.087*
N1型	−0.0136 (4)	0.61595 (17)	0.05889 (14)	0.0347 (5)
氮气	0.2291 (4)	0.51180 (18)	−0.02068 (16)	0.0438 (5)
氢气	0.3291	0.5109	0.0202	0.053*
O1公司	−0.3565 (4)	0.68092 (16)	0.00813 (14)	0.0506（5）
S1（第一阶段）	−0.23042 (15)	0.73305 (6)	0.16645 (5)	0.0558 (2)
S2系列	−0.12763 (14)	0.56517 (6)	−0.10671（5）	0.0469 (2)
O1瓦	0.2293 (5)	0.2342 (2)	0.09439（17）	0.0673 (7)
高沸点	0.1245	0.2783	0.0871	0.101*
H2W（氢气）	0.2854	0.2204	0.045	0.101*
氧气	0.5575 (5)	0.46676 (19)	0.10722 (19)	0.0703 (7)
臭氧	0.5760 (5)	0.3030 (2)	0.17587 (18)	0.0719 (8)
人3	0.4769	0.2847	0.1416	0.108*
O4号机组	0.8613 (5)	0.42366 (18)	0.20498 (16)	0.0662 (7)
O5公司	0.8428 (5)	0.3492（2）	0.06472 (18)	0.0786 (8)
第3章	0.71458 (12)	0.39105 (5)	0.13578 (5)	0.03976 (18)

原子位移参数（Å²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
C1类	0.0363 (13)	0.0374（13）	0.0423 (14)	0.0025 (11)	0.0022 (12)	0.0058 (11)
指挥与控制	0.071 (2)	0.094（3）	0.050 (2)	0.030 (2)	−0.0205 (19)	−0.0260 (19)
C3类	0.0367 (14)	0.0571 (17)	0.0401 (14)	0.0013 (13)	−0.0074 (12)	−0.0013 (13)
补体第四成份	0.0349 (13)	0.0351 (11)	0.0355 (13)	−0.0031 (11)	0.0027 (10)	0.0045 (11)
C5级	0.080 (3)	0.061 (2)	0.0454 (18)	0.0045 (19)	0.0001 (18)	−0.0097 (15)
C6级	0.057 (2)	0.096 (3)	0.064 (2)	0.016 (2)	−0.0003 (19)	−0.035 (2)
N1型	0.0331 (11)	0.0379 (10)	0.0331（11）	0.0028 (10)	−0.0025 (9)	−0.0001 (9)
氮气	0.0389 (13)	0.0493 (12)	0.0433 (13)	0.0051 (11)	−0.0019 (11)	−0.0060 (10)
O1公司	0.0403（11）	0.0622 (13)	0.0493 (11)	0.0118 (10)	−0.0048 (10)	0.0090 (9)
S1（第一阶段）	0.0577 (5)	0.0596（4）	0.0502 (4)	0.0164 (4)	0.0034 (4)	−0.0093 (4)
S2系列	0.0447 (4)	0.0593 (4)	0.0368 (3)	−0.0016 (4)	−0.0054 (3)	−0.0001 (3)
O1瓦	0.0518 (14)	0.0804 (17)	0.0697 (15)	0.0044 (13)	−0.0074 (13)	−0.0120 (14)
氧气	0.0630 (15)	0.0595 (14)	0.0884 (19)	0.0233 (12)	−0.0160 (14)	0.0126 (14)
臭氧	0.0696（17）	0.0795 (16)	0.0666 (15)	−0.0310 (14)	−0.0173 (13)	0.0333 (14)
O4号机组	0.0704 (16)	0.0734（16）	0.0548 (13)	−0.0134 (14)	−0.0217 (13)	0.0004 (12)
O5公司	0.0621 (15)	0.112 (2)	0.0614（15）	0.0206 (16)	0.0112 (13)	−0.0203 (15)
第3章	0.0382 (3)	0.0425 (3)	0.0386 (3)	0.0025（3）	−0.0001 (3)	0.0046 (3)

几何参数（λ，º）顶部

C1-O1型	1.218 (3)	C5-S2型	1.819 (4)
C1-N1型	1.408 (3)	C5-H5A型	0.97
C1-S1号机组	1.735 (3)	C5-H5B型	0.97
C2-C3型	1.491（4）	C6-N2型	1.462 (4)
C2-S1型	1.791 (4)	C6-H6A型	0.97
C2-H2A型	0.97	C6-H6B型	0.97
C2-H2B型	0.97	N2-H2气体	0.86
C3-N1型	1.464 (3)	O1W-H1W型	0.85
C3-H3A型	0.97	O1W-H2W型	0.8494
C3-H3B型	0.97	O2-3型	1.422（2）
C4-N2型	1.306 (4)	臭氧-S3	1.539 (2)
C4-N1型	1.357 (3)	臭氧-H3	0.82
C4-S2型	1.726 (3)	O4-S3型	1.435 (2)
C5至C6	1.473 (5)	O5-S3型	1.437 (3)

O1-C1-N1型	123.6 (3)	H5A-C5-H5B型	108.2
O1-C1-S1型	125.9 (2)	N2-C6-C5型	107.8 (3)
N1-C1-S1型	110.6 (2)	N2-C6-H6A型	110.1
C3-C2-S1型	109.0 (2)	C5-C6-H6A	110.1
C3-C2-H2A	109.9	N2-C6-H6B型	110.1
S1-C2-H2A型	109.9	C5-C6-H6B型	110.1
C3-C2-H2B	109.9	H6A-C6-H6B型	108.5
S1-C2-H2B型	109.9	C4-N1-C1	121.8 (2)
H2A-C2-H2B型	108.3	C4-N1-C3	122.1 (2)
N1-C3-C2型	108.5 (2)	C1-N1-C3	115.9 (2)
N1-C3-H3A型	110	C4-N2-C6	115.9 (3)
C2-C3-H3A型	110	C4-N2-H2	122.1
N1-C3-H3B型	110	C6-N2-H2	122.1
C2-C3-H3B型	110	C1-S1-C2型	93.79 (14)
H3A-C3-H3B型	108.4	C4-S2-C5型	90.00 (15)
N2-C4-N1型	121.2 (2)	H1W-O1W-H2W型	107.7
N2-C4-S2气体	115.2 (2)	S3-O3-H3型	109.5
N1-C4-S2型	123.5 (2)	O2-S3-O4型	114.16 (15)
C6-C5-S2型	109.4 (2)	O2-S3-O5型	111.56 (18)
C6-C5-H5A型	109.8	O4-S3-O5型	111.63 (17)
S2-C5-H5A型	109.8	O2-S3-O3型	107.84 (16)
C6-C5-H5B型	109.8	O4-S3-O3型	103.87 (14)
S2-C5-H5B型	109.8	O5-S3-O3型	107.19 (18)

S1-C2-C3-N1型	−15.3 (4)	C2-C3-N1-C1型	12.3（4）
S2-C5-C6-N2型	−13.4 (4)	N1-C4-N2-C6型	175.9 (3)
N2-C4-N1-C1	179.4 (2)	S2-C4-N2-C6型	−5.1 (4)
S2-C4-N1-C1型	0.5 (3)	C5-C6-N2-C4	12.2 (4)
N2-C4-N1-C3型	4.8 (4)	O1-C1-S1-C2型	175.2 (3)
S2-C4-N1-C3型	−174.1 (2)	N1-C1-S1-C2型	−5.4 (2)
O1-C1-N1-C4	1.3 (4)	C3-C2-S1-C1型	12.2 (3)
S1-C1-N1-C4型	−178.19 (19)	N2-C4-S2-C5型	−2.8 (2)
O1-C1-N1-C3	176.2 (3)	N1-C4-S2-C5型	176.1 (2)
S1-C1-N1-C3	−3.2 (3)	C6-C5-S2-C4型	9.6 (3)
C2-C3-N1-C4型	−172.8 (3)

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
O1公司W公司-H1型W公司···O5公司^我	0.85	1.92	2.755 (4)	166
N2-H2··O2	0.86	1.98	2.816 (4)	164
O1W公司-氢气W公司···O5公司^ii（ii）	0.85	1.95	2.766 (4)	161
O3-H3···O1W公司	0.82	1.75	2.550 (4)	164

对称代码：（i）x个−1中，年,z（z）; （ii）x个−1/2,−年+1/2,−z（z）。

实验细节

水晶数据
化学配方	C类₆H（H）₉N个₂操作系统₂⁺·总部₄S公司⁻·H（H）₂O（运行）
M（M）_第页	304.36
晶体系统，空间组	正交各向异性，P（P）2₁2₁2₁
温度（K）	294
一,b条,c（c）(Å)	5.8508 (2), 13.0999 (4), 15.4187 (5)
五(Å^三)	1181.84 (7)
Z轴	4
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	0.65
晶体尺寸（mm）	0.14 × 0.05 × 0.03

数据收集
衍射仪	Nonius KappaCCD公司衍射仪
吸收校正	分析（阿尔科克，1970年）
T型_最小值,T型_最大值	0.878, 0.966
测量、独立和观察到的[我> 2σ(我)]反射	14972, 2712, 2266
R（右）_整数	0.056
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.649

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)],水风险(F类²),S公司	0.040, 0.106, 1.03
反射次数	2712
参数数量	158
氢原子处理	受约束的氢原子参数
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eÅ）⁻^三)	0.25,−0.43
绝对结构	Flack（1983），拥有1126对Friedel
绝对结构参数	−0.04 (10)

计算机程序：收集（诺尼乌斯，2000），电子秤组件（Otwinowski&Minor，1997），DENZO公司（Otwinowski和Minor，1997）和电子秤组件（Otwinowski&Minor，1997),架子97（谢尔德里克，2008），SHELXL97型（谢尔德里克，2008），ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，1997）和水银（麦克雷等。,2006年），WinGX公司（Farrugia，1999年）。

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
O1W-H1W··O5^我	0.85	1.92	2.755 (4)	166
N2-H2···O2	0.86	1.98	2.816 (4)	164
O1W-H2W··O5^ii（ii）	0.85	1.95	2.766 (4)	161
O3-H3···O1W	0.82	1.75	2.550 (4)	164

对称代码：（i）x个−1中，年,z（z）; （ii）x个−1/2,−年+1/2,−z（z）。

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