Cocrystallization of melaminium levulinate monohydrate

Choi, C.S.; Venkatraman, R.; Kim, E.H.; Hwang, H.S.; Kang, S.K.

doi:10.1107/S0108270104005207

一水乙酰丙酸三聚氰胺的共结晶

C.S.Choi先生,R.文卡特拉曼,E.H.金,Hwang先生和S.K.Kang先生

一水合物2,4,6-三氨基-1,3,5-三嗪-1-乙酰丙酸铵（4-氧代戊酸盐）晶体，C_三H（H）₇N个₆⁺·C类₅H（H）₇O（运行）_三^-·H（H）₂O、已形成通过美拉胺和乙酰丙酸共结晶自组装氢键。两个N-H

N氢键和四个N-H

O氢键连接两个三聚氰胺实体，使得每对N-H

O键桥接属于两种不同三聚氰胺阳离子胺基的两个H原子通过一个乙酰丙酸分子的羰基O原子。

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支持信息

	结晶信息文件（CIF）https://doi.org/10.107/S0108270104005207/sq1149sup1.cif 包含全局数据块，I
	结构系数文件（CIF格式）https://doi.org/10.107/S0108270104005207/sq1149Isup2.hkl 包含数据块I

CCDC参考：213724

注释顶部

晶体工程的主要目标之一是构建自组装的氢键分子材料（Desiraju，1996；Philip&Stoddart，1996）。目前，许多研究小组都参与了合成一维、二维和三维团簇自组装氢键合超晶格结构？分子材料（Whitesides，等。, 1991; 马蒂亚斯，等。, 1994; 泽科夫斯基，等。, 1990; 加迪里，等。, 1993; Kimizuka，等。, 1995; 兰格，等。, 1997). 此外，其他公司正在合成金属离子结合系统（Goddgame，等。, 1999; 张，等。, 1999). 使用三聚氰胺及其衍生物作为多功能组分进行了各种研究，因为这些化合物中存在氨基意味着它们可以很容易地与合适的氢键给体和受体分子形成几种类型的自组织超晶格（Janczak&Perpétuo，2001）一, 2001b条, 2001c（c）201天；Perpétuo&Janczak，2002年）。乙酰丙酸与三聚氰胺的结合导致2,4,6-三氨基-1,3,5-三嗪-1-乙酰丙酸铵一水合物C的1:1加合物的形成_三H（H）₇N个₆⁺·C类₅H（H）₇O（运行）_三^负极·H（H）₂O、（I），其晶体结构在此报告。

（I）的不对称单元由两个带相反电荷的离子组成，即一个质子化的三聚氰胺和一个乙酰丙酸离子，以及一个水分子（图1）。两个三聚氰胺实体直接相连通过氢键。在这个单元中，两个N6-H··N3氢键、两个N5-H··O3氢键和两个N6-H··O_3氢键桥接来自两个三聚氰胺实体的每个胺基的两个H原子通过乙酰丙酸离子上的羰基O原子。此外，还存在两个N4-H··O1W和两个O1W-H···O1氢键。三聚氰胺和乙酰丙酸盐实体之间的桥接水分子和桥接羰基O原子形成大孔（0L（左）和0R（右）如图1所示）。另一方面，两个水分子O1w^ii（ii）和O1w^三在图1中，用于沿着b条轴。

三聚氰胺离子的六元芳香环与理想的六角形形式相比出现轻微的变形（Janczak&Perpétuo，2001）c（c）)以及中性三聚氰胺的结构（Hughes，1941）。三聚氰胺实体质子化N原子处的C2-N2-C1角（表1）比非质子化氮原子处的C1-N1-C3角大4°。此外，涉及非质子化环N原子的N1-C3-N3角比涉及质子化和非质子化N原子的N3-C2-N2角大约5°。C1-N1-C3和C2-N3-C3角从120°收缩到约115°似乎与N1-C3-N3角膨胀到约127°相关，而N1-C1-N2和N3-C2-N2角都接近理想值，C2-N2-C1角也是如此。另一方面，C2-N2-C1和C1-N1-C3角度比中性三聚氰胺的等效角度（116°）高3°（Hughes，1941）。N1-C3-N3和N3-C2-N2角与中性三聚氰胺角相似。

实验顶部

将乙酰丙酸（0.22 g，2 mmol）的水溶液（50 ml）添加到溶解于热水（100 ml）中的三聚氰胺（0.26 g，2 mm ol）中。将所得溶液缓慢冷却至环境温度并过滤。三聚氰胺-乙酰丙酸加合物（I）的无色晶体出现在溶液在室温空气中静置数天后。

计算详细信息顶部

数据收集：CAD-4快递（Enraf–Nonius，1994）；单元格细化：CAD-4快递; 数据缩减：XCAD4公司（Harms&Wocadlo，1995）；用于求解结构的程序：SHELXS97标准（Sheldrick，1997）；用于优化结构的程序：货架xl97（Sheldrick，1997）；分子图形：ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，1997）；用于准备出版材料的软件：WinGX公司（Farrugia，1999年）。

数字顶部

图1。（I）的分子结构和单位-细胞含量，显示了原子编号方案和30%概率置换椭球体。由三聚氰胺阳离子和乙酰丙酸根阴离子之间的氢键形成的孔被指定为0L（左）和0R（右）.[对称代码：（i）1−x个, −年, 1 −z; （ii）−x个, −1/2 +年, 1/2 −z; （iii）x个, 1/2 −年, 1/2 +z.]

（一）顶部

水晶数据顶部

C类_三H（H）₇N个₆⁺·C类₅H（H）₇O（运行）_三^负极·H（H）₂O（运行）	F类(000) = 552
M（M）_第页= 260.27	D类_x个=1.413毫克/米^负极^三
单诊所，P（P）2₁/c（c）	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
大厅符号：-P 2ybc	23次反射的细胞参数
一= 10.538 (2) Å	θ= 11.3–13.9°
b条= 16.214 (3) Å	µ=0.11毫米^负极¹
c（c）= 7.1988 (14) Å	吨=293千
β= 95.85 (3)°	块状，无色
V（V）= 1223.6 (4) Å^三	0.46×0.43×0.36毫米
Z轴= 4

数据收集顶部

Enraf–Nonius CAD-4公司衍射仪	θ_最大值= 27.5°,θ_最小值= 2.3°
非配置文件ω/2θ扫描	小时=负极13→13
5931次测量反射	k个=负极21→21
2806个独立反射	我= 0→9
1899次反射我> 2σ(我)	每400次反射中有3次标准反射
R（右）_整数= 0.030	强度衰减：1%

精炼顶部

优化于F类²	0个约束
最小二乘矩阵：完整	通过独立和约束精化的混合物处理的H原子
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.048	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.0639P（P）)²+ 0.3261P（P）] 哪里P（P）========================================================(F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
水风险(F类²) = 0.137	（Δ/σ)_最大值< 0.001
S公司= 1.02	Δρ_最大值=0.28埃^负极^三
2806次反射	Δρ_最小值=负极0.19埃^负极^三
175个参数

水晶数据顶部

C类_三H（H）₇N个₆⁺·C类₅H（H）₇O（运行）_三^负极·H（H）₂O（运行）	V（V）= 1223.6 (4) Å^三
M（M）_第页= 260.27	Z轴= 4
单诊所，P（P）2₁/c（c）	钼K（K）α辐射
一= 10.538 (2) Å	µ=0.11毫米^负极¹
b条= 16.214 (3) Å	吨=293千
c（c）= 7.1988 (14) Å	0.46×0.43×0.36毫米
β=95.85（3）°

数据收集顶部

Enraf–Nonius CAD-4公司衍射仪	R（右）_整数= 0.030
5931次测量反射	每400次反射中有3次标准反射
2806个独立反射	强度衰减：1%
1899次反射我> 2σ(我)

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.048	0个约束
水风险(F类²) = 0.137	通过独立和约束精化的混合物处理的H原子
S公司= 1.02	Δρ_最大值=0.28埃^负极^三
2806次反射	Δρ_最小值=负极0.19埃^负极^三
175个参数

特殊细节顶部

几何图形.所有e.s.d.（除了两个l.s.平面之间二面角的e.s.d.）均使用全协方差矩阵进行估计。在估计e.s.d.的距离、角度和扭转角时，单元e.s.d.单独考虑；只有当e.s.d.的胞内参数由晶体对称性定义时，才使用它们之间的相关性。单元e.s.d.的近似（各向同性）处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
O1公司	0.08998（12）	0.85856 (8)	0.2432 (2)	0.0446 (4)
氧气	0.21430 (13)	0.96730 (9)	0.2963 (3)	0.0629（5）
臭氧	0.54437 (13)	0.75146 (9)	0.4039 (3)	0.0652 (5)
N1型	0.21102 (14)	0.58793 (10)	0.3006 (2)	0.0420 (4)
氮气	0.10962 (14)	0.46023 (10)	0.3375 (2)	0.0383 (4)
氢气	0.044 (2)	0.4266 (14)	0.312 (3)	0.054 (6)*
N3号机组	0.32997 (14)	0.46890 (9)	0.4192 (2)	0.0393（4）
4号机组	负极0.00394 (15)	0.57231（10）	0.2184 (3)	0.0498 (5)
H4NA型	负极0.0096	0.6232	0.1847	0.06*
H4NB型	负极0.0708	0.5416	0.2088	0.06*
5号机组	0.22286 (15)	0.34767 (10)	0.4542（3）	0.0491 (5)
H5NA型	0.2933	0.3242	0.4955	0.059*
H5NB型	0.1529	0.32	0.4449	0.059*
N6号	0.42457 (15)	0.59376 (11)	0.3864 (3)	0.0493 (5)
H6NA型	0.4226	0.6449	0.3549	0.059*
H6NB型	0.4955	0.5713	0.4295	0.059*
C1类	0.10664 (16)	0.54157 (11)	0.2846 (3)	0.0371 (4)
指挥与控制	0.22207 (16)	0.42632 (11)	0.4048 (3)	0.0364 (4)
C3类	0.31790 (16)	0.54923 (12)	0.3685 (3)	0.0383（4）
补体第四成份	0.19804 (17)	0.89259 (11)	0.2881 (3)	0.0380 (4)
C5级	0.31025 (17)	0.83492 (12)	0.3312 (3)	0.0451 (5)
H5A型	0.291	0.7969	0.4286	0.054美元*
H5B型	0.3216	0.8027	0.2206	0.054美元*
C6级	0.43350 (17)	0.87891 (12)	0.3933 (3)	0.0408 (5)
H6A型	0.452	0.9168	0.2954	0.049*
H6B型	0.4211	0.9115	0.503	0.049*
抄送7	0.54735 (17)	0.82440 (11)	0.4384 (3)	0.0397 (5)
C8	0.66599 (19)	0.86456 (13)	0.5261 (3)	0.0528 (6)
H8A型	0.7318	0.8238	0.5496	0.079*
H8B型	0.6493	0.8898	0.6418	0.079*
H8C型	0.6932	0.9059	0.4435	0.079*
O1瓦	负极0.00947 (14)	0.73341（10）	0.0286 (3)	0.0490 (4)
高沸点	0.044 (3)	0.7687 (18)	0.081 (4)	0.076 (9)*
H2W（氢气）	0.025 (3)	0.7124 (19)	负极0.062（5）	0.084 (10)*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
O1公司	0.0296 (7)	0.0375 (7)	0.0647（9）	0.0007 (5)	负极0.0051 (6)	负极0.0016 (7)
氧气	0.0366 (8)	0.0325 (8)	0.1163 (15)	0.0012 (6)	负极0.0087 (9)	0.0025 (8)
臭氧	0.0367 (7)	0.0356（8）	0.1187 (15)	0.0026（6）	负极0.0143 (9)	负极0.0072 (9)
1个	0.0329 (8)	0.0350 (8)	0.0567 (11)	负极0.0048 (6)	负极0.0017 (7)	0.0028 (7)
氮气	0.0254 (7)	0.0334 (8)	0.0546 (10)	负极0.0045 (6)	负极0.0030 (7)	0.0015（7）
N3号机组	0.0266 (7)	0.0369 (8)	0.0535 (10)	负极0.0039 (6)	负极0.0008 (7)	负极0.0014 (7)
4号机组	0.0322 (8)	0.0359 (9)	0.0784 (13)	负极0.0024 (6)	负极0.0081 (8)	0.0102 (9)
5号机组	0.0274 (8)	0.0345 (8)	0.0827 (13)	负极0.0014 (6)	负极0.0076 (8)	0.0066 (9)
N6号	0.0334 (8)	0.0406 (9)	0.0719 (13)	负极0.0113 (7)	负极0.0046（8）	0.0054 (8)
C1类	0.0315 (9)	0.0344 (9)	0.0443 (11)	负极0.0017 (7)	负极0.0014 (8)	0.0000 (8)
指挥与控制	0.0287 (8)	0.0342 (9)	0.0456 (11)	负极0.0014 (7)	0.0001 (8)	负极0.0029 (8)
C3类	0.0306 (9)	0.0392 (10)	0.0446 (11)	负极0.0059（7）	0.0020 (8)	负极0.0035 (8)
补体第四成份	0.0306 (9)	0.0340 (10)	0.0487（12）	0.0016 (7)	负极0.0001 (8)	0.0028 (8)
C5级	0.0302 (9)	0.0340 (10)	0.0692 (14)	0.0019 (7)	负极0.0040 (9)	0.0021 (9)
C6级	0.0336 (9)	0.0360 (10)	0.0511 (12)	0.0032 (7)	负极0.0034 (8)	负极0.0014 (9)
抄送7	0.0297 (9)	0.0352 (10)	0.0530 (13)	负极0.0011 (7)	负极0.0019 (8)	0.0018 (9)
C8	0.0380 (11)	0.0482 (12)	0.0691 (15)	负极0.0040 (9)	负极0.0104 (10)	负极0.0005 (11)
O1瓦	0.0401 (8)	0.0422 (9)	0.0637 (11)	0.0027 (6)	0.0002 (7)	负极0.0095 (7)

几何参数（λ，º）顶部

O1-C4	1.277（2）	N6-C3	1.331 (2)
氧气-C4	1.224 (2)	N6-H6NA型	0.86
臭氧-C7	1.208 (2)	N6-H6NB基因	0.86
N1-C1型	1.328（2）	C4-C5型	1.515 (2)
N1-C3型	1.337 (2)	C5至C6	1.509 (3)
N2-C2气体	1.351 (2)	C5-H5A型	0.97
N2-C1气体	1.372 (2)	C5-H5B型	0.97
N2-H2气体	0.89 (2)	C6至C7	1.499 (3)
N3-C2型	1.325 (2)	C6-H6A型	0.97
N3-C3	1.355 (2)	C6-H6B型	0.97
N4-C1号	1.312 (2)	C7-C8号机组	1.492 (3)
N4-H4NA型	0.86	C8-H8A型	0.96
N4-H4NB型	0.86	C8-H8B型	0.96
N5-C2型	1.324 (2)	C8-H8C型	0.96
N5-H5NA型	0.86	O1W-H1W型	0.86 (3)
N5-H5NB型	0.86	O1W-H2W型	0.85（3）

C1-N1-C3	115.18 (16)	氧气-C4-C5	119.90 (16)
C2-N2-C1型	119.03 (15)	O1-C4-C5型	116.27 (16)
C2-N2-H2	117.6 (15)	C6-C5-C4	113.53 (16)
C1-N2-H2	122.6 (15)	C6-C5-H5A型	108.9
C2-N3-C3	115.05 (15)	C4-C5-H5A	108.9
C1-N4-H4NA型	120	C6-C5-H5B型	108.9
C1-N4-H4NB型	120	C4-C5-H5B型	108.9
H4NA-N4-H4NB型	120	H5A-C5-H5B型	107.7
C2-N5-H5NA型	120	C7-C6-C5型	115.54 (16)
C2-N5-H5NB型	120	C7-C6-H6A型	108.4
h5纳米-纳米-5-纳米b	120	C5-C6-H6A	108.4
C3-N6-H6NA型	120	C7-C6-H6B型	108.4
C3-N6-H6NB型	120	C5-C6-H6B型	108.4
H6NA-N6-H6NB型	120	H6A-C6-H6B型	107.5
N4-C1-N1号	120.93 (17)	O3-C7-C8型	121.16 (17)
N4-C1-N2号	117.41 (16)	O3-C7-C6	121.95 (16)
N1-C1-N2型	121.66 (16)	C8-C7-C6	116.88 (17)
N5-C2-N3号	119.94 (16)	C7-C8-H8A型	109.5
N5-C2-N2号	118.02 (16)	C7-C8-H8B型	109.5
N3-C2-N2型	122.03 (17)	H8A-C8-H8B	109.5
N6-C3-N1号机组	116.90（17）	C7-C8-H8C型	109.5
N6-C3-N3号	116.09 (17)	H8A-C8-H8C型	109.5
N1-C3-N3号机组	127.00 (16)	H8B-C8-H8C型	109.5
氧气-C4-O1	123.83 (17)	H1W-O1W-H2W型	107 (3)

C3-N1-C1-N4	负极179.5 (2)	C1-N1-C3-N3	0.8 (3)
C3-N1-C1-N2	1.0 (3)	C2-N3-C3-N6	178.32 (18)
C2-N2-C1-N4	179.46 (18)	C2-N3-C3-N1	负极2.5 (3)
C2-N2-C1-N1	负极1.0 (3)	氧气-C4-C5-C6	3.6 (3)
C3-N3-C2-N5	负极178.75（19）	O1-C4-C5-C6	负极176.85 (19)
C3-N3-C2-N2	2.5 (3)	C4-C5-C6-C7型	179.74 (19)
C1-N2-C2-N5	负极179.69 (19)	C5-C6-C7-O3	9.4 (3)
C1-N2-C2-N3	负极0.9 (3)	C5-C6-C7-C8	负极171.4 (2)
C1-N1-C3-N6	179.95 (18)

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
N2-H2··O1^我	0.89 (2)	1.80 (2)	2.689 (2)	179 (2)
O1公司W公司-H1型W公司···O1公司	0.86 (3)	1.90 (3)	2.697 (2)	154 (3)
O1公司W公司-氢气W公司···O1公司^ii（ii）	0.85 (3)	1.99 (3)	2.825（2）	168 (3)

对称代码：（i）负极x个,年负极1/2,负极z+1/2; （ii）x个,负极年+3/2,z负极1/2.

实验细节

水晶数据
化学式	C类_三H（H）₇N个₆⁺·C类₅H（H）₇O（运行）_三^负极·H（H）₂O（运行）
M（M）_第页	260.27
晶体系统，空间组	单诊所，P（P）2₁/c（c）
温度（K）	293
一,b条,c（c）(Å)	10.538 (2), 16.214 (3), 7.1988 (14)
β(°)	95.85 (3)
V（V）(Å^三)	1223.6 (4)
Z轴	4
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米^负极¹)	0.11
晶体尺寸（mm）	0.46 × 0.43 × 0.36

数据收集
衍射仪	Enraf–Nonius CAD-4公司衍射仪
吸收校正	–
测量、独立和观察到的[我> 2σ(我)]反射	5931, 2806, 1899
R（右）_整数	0.030
（罪θ/λ)_最大值(Å^负极¹)	0.650

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)]，水风险(F类²),S公司	0.048, 0.137, 1.02
反射次数	2806
参数数量	175
氢原子处理	通过独立和约束精化的混合物处理的H原子
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）^负极^三)	0.28,负极0.19

计算机程序：CAD-4表达（Enraf–Nonius，1994），CAD-4快递,XCAD4公司（Harms&Wocadlo，1995），SHELXS97标准（谢尔德里克，1997），货架xl97（谢尔德里克，1997），ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，1997），WinGX公司（Farrugia，1999年）。

选定的几何参数（Å，º）顶部

O1-C4	1.277 (2)	N2-C1气体	1.372 (2)
氧气-C4	1.224 (2)	N3-C2型	1.325（2）
臭氧-C7	1.208 (2)	N3-C3	1.355 (2)
N1-C1型	1.328（2）	N4-C1号	1.312 (2)
N1-C3型	1.337 (2)	C4-C5型	1.515 (2)
N2-C2气体	1.351 (2)

C1-N1-C3	115.18 (16)	N1-C3-N3号机组	127.00 (16)
C2-N2-C1型	119.03 (15)	氧气-C4-O1	123.83 (17)
C2-N3-C3	115.05 (15)	氧气-C4-C5	119.90 (16)
N1-C1-N2型	121.66 (16)	O1-C4-C5型	116.27 (16)
N3-C2-N2型	122.03 (17)

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
N2-H2··O1^我	0.89（2）	1.80 (2)	2.689 (2)	179 (2)
O1W-H1W··O1	0.86 (3)	1.90 (3)	2.697 (2)	154 (3)
O1W-H2W··O1^ii（ii）	0.85 (3)	1.99 (3)	2.825（2）	168 (3)

对称代码：（i）负极x个,年负极1/2,负极z+1/2; （ii）x个,负极年+3/2,z负极1/2.

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