单晶硅低温力学性能中观察到的二能级系统

R.N.Kleiman、G.Agnolet和D.J.Bishop
物理学。修订稿。59,2079–1987年11月2日出版

摘要

使用高-机械振荡器技术我们测量了高纯单晶硅的声速和机械耗散随温度(0.005)的变化4.2 K),频率(0.66.0 kHz)和应变幅度(105108). 在机械性能方面,我们发现硅与玻璃硅具有惊人的强烈温度依赖性,其定性行为与玻璃硅相同。这意味着硅的二能级系统密度仅比非晶硅低2个数量级。在硅中,我们发现了低温下一种新的耗散机制的证据,并报道了首次观察到的饱和现象以及共振对声速的贡献。

  • 1987年6月8日收到

内政部:https://doi.org/10.103/PhysRevLett.59.2079

©1987美国物理学会

作者和附属机构

R.N.克莱曼,G.阿格诺莱、和D.J.Bishop先生

  • 美国电话电报公司贝尔实验室,新泽西州默里山07974

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第59卷,第。1987年11月18日至2日

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