对4°K附近硅和锗单晶中载流子的回旋共振实验结果进行了实验和理论讨论。描述了具有良好信噪比的光调制技术。描述了圆极化微波辐射的实验。报道了各向异性效应的完整研究。锗中靠近能带边缘的电子能面是沿着〈111〉具有纵向质量参数的轴米我=(1.58±0.04)米和横向质量参数米吨=(0.082±0.001)米硅中的电子能表面是沿着〈100〉轴与米我=(0.97±0.02)米;米吨=(0.19±0.01)米锗和硅中的空穴的能量表面有以下形式E类(k个)=A类k个2±[B类2k个4+C类2(k个x个2k个年2+k个年2k个z(z)2+k个z(z)2k个x个2)]12.我们发现,对于锗,A类=−(13±0.2)(ℏ22米),|B类|=(8.9±0.1)(ℏ22米),|C类|=(10.3±0.2)(ℏ22米); 对于硅,A类=−(4.1±0.2)(ℏ22米),|B类|=(1.6±0.2)(ℏ22米),|C类|=(3.3±0.5)(ℏ22米)本文讨论了这些常数中可能存在的系统误差。
内政部:https://doi.org/10.103/PhysRev.98.368
©1955美国物理学会
G.德雷塞尔豪斯,A.F.Kip(基普),以及C.基特尔
第98卷,Iss。1955年4月2日
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