{“id”：“https://openalex.org/W2168956145“，”doi“：”https://doi.org/10.1109/cicc.219.929773“，”title“：“使用超低阈值电压CMOS的高性能微处理器的设计方法”，”display_name“：”使用超低阈电压CMOS高性能微处理器设计方法“，”publication_year“：2002，”publiation_date“：”2002-11-13“，”ids“：{”openalex“：”https://openalex.org/W2168956145“，”doi“：”https://doi.org/10.109/cicc.2001.929773“，”mag“：”2168956145“}，”language“：”en“，”primary_location“：{”is_oa“：false，”landing_page_url“：”https://doi.org/10.109/cicc.2001.929773“，”pdf_url“：null，”source“：null，”license“：null'，”licence_id“：null，”version“：nuller，”is_accepted“：false，”is_published“：false}，”type“：”article“，”type_crossref“：“procesdings-article”，”indexed_in“：[”crossref“]，”open_access“：{”is_oa“：false，”oa_status“：”closed“，”oa_url”：null“，”any_repository_has_fulltext“：false}”，”authorships“：[{”author_position“：”first“，”作者“：{”id“：”https://openalex.org/A5048879738“，”display_name“：”T.Miyake“，”orcid“：null｝，”institutions“：[｛”id“：”https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”T.Miyake“，”raw _affiliation_strings“：[“日立有限公司设备开发中心，日本东京”]，”affiliations“：[{”raw _affiliation_string“：”日立有限公司设备开发中心（日本东京），“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”middle“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5025869674“，”display_name“：”T.Yamashita“，”orcid“：”https://orcid.org/0000-0001-7063-9772}，“机构”：[{“id”：https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”T.Yamashita“，”raw _ afiliation_strings“：[“日立有限公司设备开发中心，日本东京”]，”affiliations“：[{”raw_ afiliation _string“：”日立有限责任公司设备开发中，日本东京“，”institution_ids“：[https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”middle“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5031366984“，”display_name“：”N.Asari“，”orcid“：null}，”institutions“：[{”id“：”https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”N.Asari“，”raw _ afiliation_strings“：[“日立ULSI系统有限公司，日本东京，Ome”]，”affiliations“：[{”raw _affiliation_strong“：”日立ULSI-Systems有限公司，东京，日本东京”，“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”middle“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5045588559“，”display_name“：”H.Sekisaka“，”orcid“：null}，”institutions“：[{”id“：”https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”H.Sekisaka“，”raw _ afiliation_strings“：[“日立ULSI系统有限公司，日本东京，Ome”]，”affiliations“：[{”raw _affiliation_string“：”日立ULSI-Systems有限公司，东京，日本东京”，“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”middle“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5033973949“，”display_name“：”酒井武彦“，”兽人“：”https://orcid.org/0000-0001-9157-9967}，“机构”：[{“id”：https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”T.Sakai“，”raw _ afiliation_strings“：[“日立ULSI系统有限公司，日本东京，Ome”]，”affiliations“：[{”raw _affiliation_strong“：”日立ULSI-Systems有限公司，东京，日本东京”，“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”middle“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5084030505“，”display_name“：”Kai Matsuura“，”orcid“：null}，”institutions“：[{”id“：”https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”K.Matsuura“，”rau_affiliation_strings“：[“日立ULSI系统有限公司，日本东京，Ome”]，”affiliations“：[{”raw_affiliation_string“：”日立ULSI-Systems有限公司，东京，日本东京”，“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”middle“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5073966466“，”display_name“：”A.Wakahara“，”orcid“：null}，”institutions“：[{”id“：”https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”A.Wakahara“，”raw _ afiliation_strings“：[“日立设备开发中心，日立有限公司，日本东京”]，”affiliations“：[{”raw _affiliation_strong“：”日立设备研发中心，日升有限公司，东京”，“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”middle“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5025826322“，”display_name“：”H.Takahashi“，”orcid“：null}，”institutions“：[{”id“：”https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”H.Takahashi“，”raw _ afiliation_strings“：[“日立设备开发中心，日立有限公司，日本东京”]，”affiliations“：[{”raw_ afiliation _string“：”日立设备研发中心，日升有限公司，东京”，“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”middle“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5010003814“，”display_name“：”T.Hiyama“，”orcid“：null}，”institutions“：[{”id“：”https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”T.Hiyama“，”raw _ afiliation_strings“：[“日本神奈川日立有限公司企业服务器部”]，”affiliations“：[{”raw _affiliation_string“：”日本神奈川日立有限责任公司企业服务器处”，“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”middle“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5090427287“，”display_name“：”宫本浩司“，”orcid“：null}，”机构“：[{”id“：”https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”K.Miyamoto“，”raw _ afiliation_strings“：[“日本神奈川日立有限公司企业服务器部”]，”affiliations“：[{”raw _affiliation_string“：”日本神奈川日立有限责任公司企业服务器处”，“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}，{”author_position“：”last“，”author“：{”id“：”https://openalex.org/A5084606471“，”display_name“：”K.Mori“，”orcid“：”https://orcid.org/0000-0002-8521-0028}，“机构”：[{“id”：https://openalex.org/I65143321“，”display_name“：”日立（日本）“，”ror“：”https://ror.org/02exqgm79“，”country_code“：”JP“，”type“：”company“，”沿袭“：[”https://openalex.org/I65143321“]}]，”国家“：[”JP“]，”is_corresponding“：false，”raw_author_name“：”K.Mori“，”raw _affiliation_strings“：[“日立设备开发中心，日立有限公司，日本东京”]，”affiliations“：[{”raw _affiliation_string“：”日立设备研发中心，日升有限公司，东京”，“institution_ids”：[“https://openalex.org/I65143321“]}]}]，”institution_assertions“：[]，”countries_distiction_count“：1，”institutions_disticent_count”：1，“corresponding_author_ids”：[]、“corresconding_institution_ids“：[].”apc_list“：null，”apc_payed“：null，”fwci“：3.97，”has_fulltext“：true，”fulltext_origin“：”ngrams“，”cited_by_count：20，“citation_normalized_percentile”：{“value”：0.8 73412，“is_in_top_1_percent“：false，”is_in_top_10_percennt“：false}，”cited_by_percentile_year“：{”min“：85，”max“：86}，“biblio”：{“volume”：null，“issue”：null:null，”first_page“：nullhttps://openalex.org/T11417“，”display_name“：”高速电路中的锁相环“，”score“：0.9979，”subfield“：{”id“：”https://openalex.org/subfields/2208“，”display_name“：”电气与电子工程“}，”字段“：{”id“：”https://openalex.org/fields/22“，”display_name“：”Engineering“}，”domain“：{”id“：”https://openalex.org/domains/3“，”display_name“：”物理科学“}}，”主题“：[{”id“：”https://openalex.org/T11417“，”display_name“：”高速电路中的锁相环“，”score“：0.9979，”subfield“：{”id“：”https://openalex.org/subfields/2208“，”display_name“：”电气与电子工程“}，”字段“：{”id“：”https://openalex.org/fields/22“，”display_name“：”Engineering“}，”domain“：{”id“：”https://openalex.org/domains/3“，”display_name“：”物理科学“}}，{”id“：”https://openalex.org/T12495“，”“display_name”：“集成电路中的静电放电保护”，“score”：0.9967，“subfield”：{“id”：“https://openalex.org/subfields/2208“，”display_name“：”电气与电子工程“}，”字段“：{”id“：”https://openalex.org/fields/22“，”display_name“：”Engineering“}，”domain“：{”id“：”https://openalex.org/domains/3“，”display_name“：”物理科学“}}，{”id“：”https://openalex.org/T11032“，”display_name“：”超大规模集成测试“，”score“：0.996，”subfield“：{”id“：”https://openalex.org/subfields/1708“，”display_name“：”硬件和体系结构“}，”字段“：{”id“：”https://openalex.org/fields/17“，”display_name“：”Computer Science“}，”domain“：{”id“：”https://openalex.org/domains/3“，”display_name“：”物理科学“}}]，”关键词“：[{”id“：”https://openalex.org/keywords/微处理器“，”display_name“：”微处理器“，”score“：0.720412}，{”id“：”https://openalex.org/keywords/ldmos设计“，”display_name“：”LDMOS Design“，”score“：0.590204}，{”id“：”https://openalex.org/keywords/cmos-technology网站“，”display_name“：”CMOS技术“，”score“：0.581263}，{”id“：”https://openalex.org/keywords/低功耗测试“，”display_name“：”低功耗测试“，”score“：0.575766}，{”id“：”https://openalex.org/keywords/integrated-circuit-design网站“，”display_name“：”集成电路设计“，”score“：0.4293478｝]，”concepts“：[｛”id“：”https://openalex.org/C46362747，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q173431“，”display_name“：”CMOS“，”level“：2，”score“：0.77105826}，{”id“：”https://openalex.org/C2780728072，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q5297“，”display_name“：”微处理器“，”level“：2，”score“：0.720412}，{”id“：”https://openalex.org/C41008148，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q21198“，”display_name“：”计算机科学“，”level“：0，”score“：0.5499697}，{”id“：”https://openalex.org/C195370968，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q1754002“，”display_name“：”阈值电压“，”level“：4，”score“：0.53602713}，{”id“：”https://openalex.org/C24326235，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q126095“，”display_name“：”电子工程“，”level“：1，”score“：0.47840366}，{”id“：”https://openalex.org/C165801399，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q25428“，”display_name“：”Voltage“，”level“：2，”score“：0.47370905}，{”id“：”https://openalex.org/C74524168，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q1074539“，”display_name“：”集成电路设计“，”level“：2，”score“：0.4293478}，{”id“：”https://openalex.org/C119599485，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q43035“，”display_name“：”电气工程“，”level“：1，”score“：0.38705122}，{”id“：”https://openalex.org/C149635348，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q193040“，”display_name“：”嵌入式系统“，”level“：1，”score“：0.31801713}，{”id“：”https://openalex.org/C127413603，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q11023“，”display_name“：”Engineering“，”level“：0，”score“：0.2578301}，{”id“：”https://openalex.org/C172385210，“wikidata”：https://www.wikidata.org/wiki/Q5339“，”display_name“：”晶体管“，”level“：3，”score“：0.183346}]，”mesh“：[]，”locations_count“：1，”location“：[{”is_oa“：false，”landing_page_url“：”https://doi.org/10.109/cicc.2001.929773“，”pdf_url“：null，”source“：null，”license“：null，”license_id“：null，”version“：null，”is_accepted“：false，”is_published“：false｝]，”best_oa_location“：null，”sustainable_development_goals“：[｛”score“：0.88，”display_name“：”平价清洁能源“，”id“：”https://metadata.un.org/sdg/7“}]，”grants“：[]，”datasets“：[]，”versions“：[】，”referenced_works_count“：4，”referrenced_works“：]”https://openalex.org/W1566054141","https://openalex.org/W1880721252","https://openalex.org/W2151244242","https://openalex.org/W2154328619“]，”related_works“：[”https://openalex.org/W3157076093","https://openalex.org/W3101366632","https://openalex.org/W2776347734","https://openalex.org/W2139890664","https://openalex.org/W2139774918","https://openalex.org/W2116794258","https://openalex.org/W2111020485","https://openalex.org/W2022266980","https://openalex.org/W1605941575","https://openalex.org/W1561253851“]，”abstract_inverted_index“：{”A“：[0]，”new“：[1]，”design“：[2]，”methodology“：[3]，”of“：[4,61]，”high“：[5]，”performance“：[6,19]，”CMOS“：[7]，”MPU“：[8,64]，”that“：[9]，]，“to”：[16,47,70]，“improve”：[17]，“circuit”：[18]，“with”：[20,33]，“low”：[21,38]，“power”：[22]，“supply”：[23]，“讨论了电压“：[24]”。“：[26]，”The“：[27]，”multi-V/sub“：[28]，”TH/“：[29]，”The“：[30]，”IDDQ“：[31，41，54，75]，”measurement“：[32]，”back“：[34]，”bias“：[35]，”control“：[36]，”at“：[37]，”temperature“：[39]，”and“：[40]，”technologies“：[42]，”are“：[43]，”applied“：[44]，”in“：[45]，”order“：[46]，“速度”：[48]，“上升”：[49]，“无”：[50，73]，“增加”：[51]，“背景”：[52]，“泄漏”：[53]，“测试。“：[55]，“As”：[56]，“a”：[57]，“result”，“：[58]，“operation”：[59]，“frequency”：[60]，“64”：[62]，“bit”：[63]，“was”：[65]，“successfully”：【66】，“improved”：【67】，“340”：【68】，“MHz”：【69，72】，“560”：【71】，“lowering”：【74】，“quality”。“：[76]}，”cited_by_api_url“：”https://api.openalex.org/works？filter=cites:W2168956145“，”counts_by_year“：[{”年“：2020，”cited_by_count“：1}]，”更新日期“：”2024-09-14T00:02:31.536706“，”创建日期“：“2016-06-24”}