罗，G。;万卡，S.P。;北卡罗来纳州格鲁马克。 用于薄膜沉积的大面积常压驻留流CVD反应器中的流体流动和传输过程。 （英语） Zbl 1098.76646号 国际传热传质杂志 47，第23号，4979-4994（2004）. 总结：本文研究了一种新的CVD反应器结构，以在大面积衬底上常压沉积均匀薄膜。对各种参数进行了计算，以研究入口流速、基板旋转和反应器室高度的影响。可以看出，对于某些参数组合，晶圆上方的流动是不稳定的。探讨了圆角对剪切层阻尼不稳定性的影响。通过采用圆角，我们能够将30厘米晶圆在大气压力下的均方根不均匀度降低到约1%。冲击射流几何形状可用于沉积固体薄膜，而无需消耗真空系统和相关设备成本。 引用于6文件 MSC公司： 76伏05 流动中的反应效应 76T10型 液气两相流，气泡流 80A20型 传热传质、热流（MSC2010） 关键词：计算机模拟;流体流动;化学气相沉积工艺 PDF格式BibTeX公司 XML格式引用 \textit{G.Luo}等人，《国际传热传质杂志》47，第23期，4979-4994（2004；Zbl 1098.76646） 全文： 内政部