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监测集成电路制造过程中的晶圆图数据,以确定空间聚集缺陷。 (英语) Zbl 0891.62074号

概述:集成电路(IC)制造中的质量控制传统上基于整体汇总数据,如批次或晶圆产量。如果缺陷IC在晶圆内部和晶圆之间随机分布,那么这些措施就足够了。然而,在实践中,缺陷经常出现在集群中或显示其他系统模式。一般来说,这些空间聚集的缺陷具有可指定的原因,这些原因可以追溯到单个机器或一系列不符合规定要求的工艺步骤。
我们开发了在晶圆图级别定期监测探针测试数据的方法,以检测是否存在空间聚类。在各种相关的零和替代情况下,开发了一系列监测统计数据的统计特性,并将所得方法应用于制造数据。

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第60页 统计学在工程和工业中的应用;控制图
62M40型 随机字段;图像分析
62立方米 空间过程推断
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全文: 内政部