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一后期内源性LEM2的STED成像。刻度150 nm。代表来自4个单元格的数据。b条、全长LEM2（LEM2）的荧光成像_{佛罗里达州})和MTs.代表2个技术副本。LEM2的荧光成像_NTD公司和MTs.代表10个技术复制品。c（c）LEM2的FRAP分析_{佛罗里达州}-和LEM2_NTD公司-涂层MT束。绘制的数据为平均+/-SEMn个=5个独立样本（LEM2_{佛罗里达州})或n个=17个独立样本（LEM2_NTD公司)。d日，LEM2的FRAP分析_NTD公司-涂层MT束。代表2个独立示例的图像。e（电子），MT单独或与纯化LEM2指示部分的电子显微照片。LEM2-PR_A类AA:145–165，LEM2-PR_B类AA:188-213。代表3个技术复制品。刻度25 nm。（f）顶部，LEM2的架构示意图，突出了SY和PR丰富的地区。显示的LEM2-mChr缺失结构和GFP-tubulin的底部活细胞成像。时间0表示完成CFI的时间。3个生物复制品的代表。刻度2μm(b、 d、f)。