代谢应激促进自噬缺陷细胞ROS生成增加和染色体不稳定性（A） 自噬不足导致活性氧生成增加。覆盖显示Bcl-2表达的ROS水平贝克林1+/+（绿色）和贝克林1+/−正常生长（0Di）和0.5、1、2.5和24小时时的iBMK细胞（蓝色）（x轴，对数刻度）(贝克林1+/+，绿色箭头和贝克林1+/−，红色箭头）。未经处理的细胞中的ROS水平以虚线显示，以供比较。
（B） 来自三个独立实验的代表性直方图，测量Bcl-2表达的平均活性氧水平贝克林1+/+和贝克林1+/−iBMK细胞如（A）所示。
（C） 清除活性氧可部分缓解代谢应激的易感性，并可因代谢应激的等位基因丢失而恢复贝克林1.表达Bcl-2的典型延时图像贝克林1+/+和贝克林1+/−在活性氧清除剂NAC（1mM）存在（NAC）和不存在（UT）的情况下，经过5天的代谢应激恢复期的iBMK细胞（显示了与时间0相比粘附细胞的相对百分比）。
（D） 清除活性氧抑制自噬缺陷患者p62的积累(贝克林1+/−和第5天−/−)单元格。Bcl-2表达中p62水平的Western blot分析贝克林1+/+,贝克林1+/−,第5天+/+和第5天−/−iBMK细胞系经过0或7天的代谢应激，然后在无NAC和有NAC的情况下恢复1天。
（E） 活性氧清除限制与等位基因缺失相关的非整倍体进展贝克林1.表达Bcl-2的二倍体DNA含量的流式细胞术分析贝克林1+/+和贝克林1+/−iBMK细胞在存在（蓝色）或不存在（红色）ROS清除剂NAC（1mM）的情况下生长。数字代表决定倍性的传代数。
