ZrO单晶2-15 mol%CaO和ZrO2-9摩尔%Y2O（运行）三在1273 K下退火400 h或在1673 K下淬火2.5 h，然后进行电子衍射和暗场透射电子显微镜检查。热处理重复了费伯、米勒和库珀的热处理[物理学。版本B(1978),17，4884-4888]，他使用弹性中子散射来研究由先前作者所称的“有序”结构引起的氟化物反射。目前的结果表明，额外的反射是由于四方ZrO的沉淀所致2在这两个系统中。扩散散射强度成像也显示出立方体固溶矩阵中的小畴，可能与氧空位有序有关。无论是否四方ZrO，都可以观察到扩散强度2存在沉淀物。
