确定了高压镅的结构,即在室温下10–15 GPa的压力范围内发生的III相。该材料具有单斜晶格一= 3.025±0.005,b条= 11.887±0.019,c(c)=2.830±0.005奥,以及β=106.11±0.14°,12.5 GPa。空间组为P(P)21/米具有Z= 4. 强度数据来自于在钼压力下拍摄的粉末印刷胶片K(K)α辐射,λ= 0.7107 Å. 该结构可以描述为低压f.c.c.和高压α之间的层堆叠中间层-U型结构类型,通过最小二乘计算细化为R(右)1=0.07,有12次观察到的反射。Am–最近邻居的Am距离为2.83至3.21欧。