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T·宫崎骏。
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J.应用。
克里斯特。
(2024).
57
,
306-313
https://doi.org/10.1107/S16057624000700
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研究超临界水中水热反应的高温高压小角度中子散射池
J.Abe（安倍）
,
H.阿里马·奥索诺伊
,
H.我是
,
S.高田
,
K.Ohuchi公司
,
S.开赛
,
T.宫崎骏
,
森田先生
和
M.Shibayama先生
研制了一种用于小角中子散射（SANS）实验的具有金属窗的坚固高温高压电池。
此单元格启用
就地
亚临界和超临界水环境中材料的SANS实验。
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J.应用。
克里斯特。
（2023年）。
56
,
1802-1812
https://doi.org/10.107/S1600576723009780
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D的发展
2
常用开支
2
用于对比变化中子散射的O蒸汽发生器
H.阿里马·奥索诺伊
,
S.-高田
,
南卡赛岛
,
K.Ohuchi公司
,
T.森川
,
N.宫田
,
T.宫崎骏
,
青木H
,
H.我是
,
K.Hiroi先生
,
小村先生
,
T.菊池
,
H.高希娜
和
T.坂原
这项工作提出了一种用于中子散射实验的新型水蒸气发生器，该发生器允许连续控制同位素H/D比，这对于对比度测量特别有用。
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《水晶学报》。
(2021).
A类
77
,
C577元
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湿度条件下全氟磺酸薄膜的聚集态和质子电导率
D.川口
,
S.Yonemori公司
,
Y.Ogata公司
,
N.宫田
,
吉田（T.Yoshida）
,
T.宫崎骏
,
H.青木
和
田中K
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J.应用。
克里斯特。
(2015).
48
,
1016-1022
https://doi.org/10.107/S1600576715008031
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的系统
就地
聚合物薄膜单轴变形过程中三维结构变化的观察
T.宫崎骏
,
K.Shimokita公司
,
H.小川
和
山本K
本文提出了一个简单的单轴变形薄膜三维结构评估系统。
可以获得所谓边视图和端视图上的小角度X射线散射和广角X射线衍射的二维图案以及应力应变数据
通过
该系统在薄膜拉伸过程中。
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补遗和勘误表
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J.应用。
克里斯特。
(2018).
51
,
560-561
https://doi.org/10.107/S1600576718001875
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的系统
就地
单轴变形过程中聚合物薄膜三维结构变化的观察。
勘误表
T.宫崎骏
,
K.Shimokita公司
,
H.小川
和
山本K
勘误表
J.应用。
克里斯特。
（2015）中，
48
, 1016–1022
.
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J.应用。
克里斯特。
(2016).
49
,
241-249
https://doi.org/10.107/S160057671600128X
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用面内平均法改进Debye–Scherrer环X射线应力测量
T.宫崎骏
,
藤本义夫
和
佐佐木（T.Sasaki）
提出了使用德拜-谢尔环测量X射线应力的改进方法。
即使试样是粗粒度的，面内平均也可以提高测量的准确性。
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克里斯特。
(2016).
49
,
426-432
https://doi.org/10.107/S1600576716000492
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基于基本方程的X射线应力测量方法比较
T.宫崎骏
和
佐佐木（T.Sasaki）
基于统一的基本方程，对X射线应力测量方法进行了比较。
从误差估计来看，广义cosα法在三坐标系三轴应力测量中具有良好的精度。
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克里斯特。
(2024).
57
,
215-219
https://doi.org/10.107/S1600576723011135
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正常开放
接近
BL28XU SPring-8的时间分辨AUSAXS
Y.Nakanishi先生
,
福建南部
,
柴田先生
,
T.宫崎骏
,
山本K
和
竹中弥生
本工作报告了在SPring-8的BL28XU光束线上成功构建的反常超小角度X射线散射（AUSAXS）测量系统。
至少
q个
=0.0069纳米
−1
通过在30秒内对17种不同能量进行散射测量，获得了时间分辨测量结果。
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克里斯特。
(2013).
46
,
1610-1615
https://doi.org/10.107/S0021889813024151
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用于同步辐射的高精度旋涂机
就地
GISAXS系统：用于研究聚合物薄膜中自组装结构的形成机制
H.小川
,
T.宫崎骏
,
K.Shimokita公司
,
A.藤原
,
竹中弥生
,
T.山田
,
Y.Sugihara公司
和
M.高田
设计、实现了一个高精度的自旋-水系统，并利用高时间分辨率的掠入射小角X射线散射（GISAXS）研究了三嵌段共聚物的形成过程和膜厚。
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克里斯特。
(2014).
47
,
476-481
https://doi.org/10.1107/S16057613031774
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正常开放
接近
溶剂蒸发成膜过程中SAXS-WAXD和涂层厚度同步测量系统的研制
K.Shimokita公司
,
T.宫崎骏
,
H.小川
和
山本K
提出了一种新的同时测量小角度X射线散射和广角X射线衍射（SAXS-WAXD）和涂层厚度的系统，以及溶剂蒸发过程中SAXS散射不变量的数据校正方法。
在研究干燥过程中的成膜机理时，校正非常重要。
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《水晶学报》。
(2014).
E类
70
,
i23-i24
https://doi.org/10.107/S1600536814009234
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正常开放
接近
La公司
三
硅
6
N个
11
H.亚马内
,
T.长村
和
T.宫崎骏
三黄六硅十一硝基无色透明单晶
三
硅
6
N个
11
，在0.85 MPa的N压力下制备
2
和2273K。
标题化合物与Sm为同型
三
硅
6
N个
11
以硅为中心的氮四面体通过共享角点形成三维网络结构。
一种SiN的层
4
由两个不同La组成的四面体和板
3+
阳离子和其他类型的氮化硅
4
四面体沿着
c（c）
正方形单元的轴线。
两个La的位点对称性
3+
阳离子是。。
米
和4。
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