X射线自由电子激光（XFEL）源产生了前所未有的亮度X射线脉冲，为晶体材料的结构表征开辟了新的可能性。通过将一个小的微晶（100nm-10μm）暴露在单个超快脉冲下，可以在晶体受损之前获得衍射图案。如果将在许多随机取向的微晶上连续收集的这种单脉冲衍射图案组合在一起，就有可能准确地确定材料的结构[1]。这种方法的缺点之一是在每个图案中只访问Ewald球体的一个位置，因此，由于反射具有有限的宽度，因此对于记录的任何反射，衍射条件都不完全满足。瑞士正在开发的新型XFEL光源（SwissFEL）将提供约4%能量带宽的宽带模式[2]。通过使用SwissFEL光束的全能量范围，晶体材料结构研究的新选择成为可能。在最近一项基于模拟数据的研究中，我们表明，在这种“额外粉红色”光束中对固定晶体进行衍射实验，不仅增加了可以在一次激发中收集的反射强度数量，而且克服了“部分反射”测量的问题[3]。为了用实验数据测试数据处理的可行性，在ESRF的SNBL和SLS的microXAS波束线上尝试模拟这4%的带通。在SNBL上，单晶旋转360°，单色仪在4%能量范围内每1°进行一次连续扫描。在SLS，一个反射镜被用来切断波荡器光束的较高能量和Pilatus探测器的能量阈值，以消除较低的能量。利用这种设置，测量了一系列随机取向的微晶。将对这些数据集的分析进行比较。
