大分子晶体的洛伦兹因子

J.D.阿克斯和J.B.黑斯廷斯

当垂直分辨率相当于或小于测量的布拉格反射马赛克时，导出了用于二轴和三轴光谱仪的洛伦兹因子的一般表达式。

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同步辐射X射线粉末数据的Rietveld精化：钡的结构₂钨酸锶₆

D.E.考克斯,J.B.黑斯廷斯和W.汤姆林森

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KMnF的高能单色劳厄（MonoLaue）X射线散射研究_三使用图像板

A.吉波特,D.哈洛,J.B.黑斯廷斯,J.P.希尔和D.查普曼

介绍了利用成像板记录衍射图样的高能单色劳厄X射线散射技术。

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同步辐射X射线粉末衍射

J.B.黑斯廷斯,W.汤姆林森和D.E.考克斯

介绍了同步辐射X射线在粉末衍射中的应用。康奈尔高能同步辐射源（CHESS）的完美硅双晶单色器与硅、锗、氟化锂和铝配合使用₂O（运行）_三分析仪，用于研究1.07至1.54º之间选定波长的分辨率和强度特性。Ge在1.54℃下获得的结果给出了分辨率Δd/d5×10⁻⁴在2θ=30°，降至2×10⁻⁴在2θ= 140°. 详细描述了峰值形状的分析，特别强调了由于轴向发散效应在50°以下的角度观察到的不对称性。通过简单的校正，可以发现峰的形状由高斯和洛伦兹分量的卷积很好地表示，这些分量的各自峰宽与固有分辨率和样品展宽效应有关。指出使用晶体分析仪应消除由于传统聚焦型衍射仪产生的位移型像差而导致的布拉格峰位置偏移。除了恒定的零误差外，参考样品CeO的观测和计算峰值位置的平均差异在0°和90°之间₂，铝₂O（运行）_三NiO仅约为0.003°。最后，对Rietveld轮廓技术在同步辐射粉末衍射数据结构分析中的应用作了一些概述。

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具有波前分割的硬X射线分裂和延迟光学系统的性能

T.平野,大阪T,森冈Y,Y.萨诺,Y.Inubushi先生,托加西,一、井上,S.松山,K.托诺,A.罗伯特,J.B.黑斯廷斯,山内K和M.Yabashi先生

SACLA研究了采用波前分割方案的硬X射线分裂延迟光学系统的性能。

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用于X射线同步辐射的石墨双晶单色仪

D.霍尔温,D.P.西顿和J.B.黑斯廷斯

利用镶嵌晶体的两次连续反射的X射线单色仪被证明是一种有效的准直宽带辐射源。在这种排列中使用镶嵌晶体非常适合于研究漫散射现象，或同时记录具有大单元和/或非常小尺寸的晶体的几次布拉格反射。单色器也可以在聚焦镜的下游使用。在本研究中，与具有相同几何形状但带宽为3.3%的硅（111）晶体相比，基于热解石墨的单色器的强度增益为72。

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硬X射线自由电子激光脉冲时间相干性的单次干涉图表征

大阪T,T.平野,森冈Y,Y.萨诺,Y.Inubushi先生,托加西,一、井上,K.托诺,A.罗伯特,山内K,J.B.黑斯廷斯和M.Yabashi先生

硬X射线自由电子激光脉冲的时间相干性通过使用由六个独立光学元件组成的多功能干涉仪捕获单次干涉图来表征。作为时间延迟函数的能见度测量结果显示，平均相干时间为5.9±0.7 fs。

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高能X射线漫散射

I.B.拉姆斯泰纳,A.Schöps公司,H.雷切尔,H.剂量,V.Honkimäki公司,Z.钟和J.B.黑斯廷斯

讨论了利用高能X射线作为绘制互易空间中漫散射的工具。特别强调了多次散射效应对测量强度分布的影响。

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高能小角度X射线散射

D.P.西顿,C.里克尔和J.B.黑斯廷斯

描述了适用于高光子能量操作的高分辨率小角度X射线散射仪的初始测试。选择的能源为50 keV，并受到可用能源的限制。从0.9的样品中观察到所有散射到第七级的顺序μ直径为m的乳胶球在4h的实验中。通过对球形铝的观察，研究了二元铝锂合金中的相分离_三李沉淀物。这表明，使用完美晶体准直器和分析仪可以产生不依赖于光子能量的分辨率函数。新的高能光子源将使这种仪器对于研究高吸收样品或在困难环境（如烤箱或高压电池）中的样品非常有价值。

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同步辐射粉末衍射。二、。镍的分散因子

P.苏尔蒂,J.B.黑斯廷斯和D.E.考克斯

用同步辐射测量了镍粉末样品的绝对积分反射的准确值，它是在镍以下290到3 eV能量范围内散射角的函数K（K）-吸收边，8332 eV。根据这些值，色散因子（f）通过比较实验散射因子和Wang&Callaway的理论值确定[物理学。版本B。(1977),15，298-306]基于交换用KSG（Kohn&Sham和Gaspar）近似的LCAO计算[Kohn和Sham（1965）。物理学。版次。 140，A1133-1138；加斯帕（1954）。物理学报。阿卡德。科学。洪。 三, 263-286]. 获得的值（f）‘作为能量的函数，与Bonse&Hartmann-Lotsch测量和列表中的吸收系数计算的电子单位约为0.2个电子单位[编号。仪器。方法(1984),222，185-188]，并且在低于阈值30至3eV的范围内通过干涉测量技术在其直接测量的约0.5个电子单位内。的变化（f）散射角小得可以忽略不计（平均小于0.2个电子单位）。本实验表明，粉末技术为测量（f）“许多材料的形式不适用于其他技术的应用，如干涉测量。

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同步辐射粉末衍射。I.绝对测量

P.苏尔蒂,J.B.黑斯廷斯和D.E.考克斯

利用完美的双晶Si（111）单色仪发出的波长为1.5413μ的单色同步辐射X射线，对镍标准粉末样品的几次反射的积分强度进行了精确测量。在衍射仪的探测臂上安装了一个完美的Ge（111）分析晶体，用作窄的“角”接收狭缝。通过应用适当的粉末衍射表达式，将强度置于绝对刻度上，这需要已知入射光子数、接收“狭缝”的轴向和赤道开口以及偏振因子。详细描述了评估这些仪器参数的程序。在含铜的标准镍样品上，这些绝对测量值与之前的绝对测量值之间的定量一致性Kα辐射表明，同步辐射技术可以用于高精度的绝对测量。

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利用同步辐射研究生物大分子的数据收集设备

R.M.甜蜜,J.B.黑斯廷斯,W.C.汤姆林森,D.S.怀斯和B.P.勋伯恩

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Al的Debye–Scherrer同步加速器X射线数据的Rietveld精化₂O（运行）_三

P.汤普森,D.E.考克斯和J.B.黑斯廷斯

Rietveld精细化技术在铝毛细管样品同步辐射X射线数据中的应用₂O（运行）_三在Debye–Scherrer几何中进行了描述。这些数据是在康奈尔高能同步辐射源（CHESS）上用硅（111）双晶单色仪和锗（111）晶体分析仪获得的。对许多分辨率良好的单个峰的拟合表明，伪V oigt函数很好地描述了峰的形状，这是高斯函数和洛伦兹函数卷积的简单近似。高斯半宽度和洛伦兹半宽度的变化，Γ_克和Γ_L（左），布拉格角可以用函数近似V（V）棕褐色的θ和X（X）/科斯θ分别代表了仪器分辨率和粒子尺寸展宽的贡献。基于该模型的Rietveld精化得到了普遍满意的结果。The refined values ofV（V）和X（X）与预期的垂直散度（0.1 mrad）和标称粒径（0.3μm）一致。特别是，使用毛细管样品实际上消除了优选取向效应，这在这种材料的平板样品中非常重要。

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