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为Germi,P发现了6处引文。

搜索杰米,P。世界水晶学家名录

结果1至6,按名称排序:


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《水晶学报》。(1993).A类49,c370-c371号
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描述了一种新的校正薄膜织构分析实验数据的方法。用于校正数据的分析通常需要随机定向试样的变形实验曲线。鉴于寻找无取向薄膜的困难,提出了一种理论方法来进行这些修正,该方法利用大块样品的离焦演化、薄膜厚度和入射光束在材料中的穿透深度。该校正方法应用于YBa薄膜27 −δ在SrTiO上单晶基板。

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本文给出了用Schulz反射技术对薄膜、多层膜和覆盖衬底的织构分析所获得的实验数据进行校正的有效角域。散焦曲线的特性以材料常数为例,说明了它们对修正曲线的影响。推导了多层膜特征类型的修正公式,并举例说明。

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详细介绍了利用透射和反射技术进行荧光薄膜纹理分析时的极图修正。不需要使用特定的实验荧光抑制,这已被证明适用于沉积在玻璃基板上的薄铁层。

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根据衍射轮廓计算的粒度分布经常受到虚假振荡的干扰。我们提出了一种方法来抑制或减少由于在原点(零尺寸)错误校正峰值和错误背景导致的寄生效应。该方法使用形式为K(K)X(X)/X(X),K(K)由方差-范围函数渐近线的截距确定。考虑到一个理论示例的讨论表明,在分布原点附近可能存在较大误差(非常小的粒径),但对于其他尺寸,结果通常比在原点将分布固定为正确值时获得的结果要好。

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从平均晶格参数变化(均匀应变)和晶格微应变(非均匀应变)的双重角度比较了12个由氢氧化镍低温制备的三种高分裂氧化镍样品。这些样品是具有镶嵌结构的黑色非化学计量NiO,具有相同镶嵌结构的绿色化学计量Ni0,以及由微小的准完美单晶(整体NiO)组成的黑色非化工计量NiO。通过电子显微镜、衍射和X射线衍射推断了这三种氧化物的织构。通过X射线谱线展宽分析获得了晶粒尺寸和微应变值。化学分析得出了化学计量的偏差。研究了均匀应变、非均匀应变、织构和化学计量之间的关系。从结果的比较中可以看出,均匀应变和非均匀应变对化学计量偏差的程度不敏感。不均匀应变主要是由于晶粒的镶嵌结构造成的。与平均晶格参数变化有关的均匀应变似乎与小晶粒尺寸有关。这两个方面与氢氧化物形成氧化物的机理有关。

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