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在哥伦比亚特区卡拉格发现14处引文。

Creagh,D有14篇文章。点击在这里来看看这些。

搜索哥伦比亚特区卡拉格。世界水晶学家名录

结果1至14,按名称排序:


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介绍了国际晶体学衰减项目联合会(International Union of Crystallography attenuation Project)参与者对单晶硅样品进行的能量范围为8-60 keV的X射线衰减系数测量。使用八种不同实验配置的十二个实验室提供了分析数据。对使用不同技术在晶体学家感兴趣的特征波长下进行的测量进行了比较。将这些测量结果与现有的理论散射截面进行比较表明,在计算理论总散射截面时,使用热扩散散射截面代替瑞利散射截面的模型与实验值更加吻合。没有找到任何依据来优先选择光电吸收截面的三个当前理论表格中的一个。

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《水晶学报》。(1993).A类49,c16号机组
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报告了参与国际结晶联合会X射线衰减项目的实验室对碳的质量衰减系数进行的测量。早期发表了使用硅进行的类似研究得出的数据[Creagh&Hubbell(1987)。《水晶学报》。A类43,102-112]。在能量范围为6至60keV的情况下,数据在很大程度上是自洽的,为0.5%,并且与早期的实验数据吻合良好。这些数据大约比理论计算数据少3%【Saloman&Hubbell(1986)】。X射线衰减系数(总横截面).实验数据库与Henke推荐值和Scofield理论值的比较0.1至100千伏。报告NBSIR 86-3431。美国商务部,国家统计局,马里兰州盖瑟斯堡,美国;Berger&Hubbell(1987)。XCOM公司。个人计算机上的光子横截面。报告NBSIR 87-3597。美国商务部,马里兰州盖瑟斯堡]对其进行测量的能量范围。因此,碳似乎是斯科菲尔德(Scofield)光效应计算的重整化(总是减少)的一个例子[Scofield(1973)。报告UCRL-51236。劳伦斯·利弗莫尔实验室,美国加利福尼亚州利弗莫尔市],由哈贝尔实施[国际期刊申请。辐射。同位素。(1982),33,1269-1290],将提高与测量数据的一致性。

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已经开发了两种系统,用于同时记录碳纤维和弹性体样品在压力下的SAXS和WAXS图案。该系统设计用于安装在光子工厂的多功能真空衍射仪(BIGDIFF)内。在一个系统中,使用了移动成像板暗盒的能力。在另一种情况下,使用了图像换版器,该换版器可以将多达13个板送到位,占空比约为60秒。在这种情况下,由于光束通过安装在专门设计的张力计中的试样,每个成像板可以在0.5-20°范围内记录SAXS/WAXS图案。由于BIGDIFF是一种真空衍射仪,且寄生散射很小,因此短至2 s的曝光时间可以产生可接受的SAXS/WAXS图案。这些系统用于研究结构随应变的变化,以及由于样品以预定量的固定速率应变而发生的松弛过程。

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已经开发了一个八位毛细管样品纺丝台,用于与光子工厂BL20B的多功能真空衍射仪(BIGDIFF)结合使用。BIGDIFF通常用于粉末衍射模式,使用安装在毛细管中的粉末和多达八个成像板来记录样品的衍射图案。如果在样品暴露于光束后,将成像板暗盒移到Weissenberg屏幕后面的新位置,则使用多旋转台可以在成像板上记录许多衍射图案。该系统不仅在泵送过程中节省了更多时间,而且还具有允许记录标准衍射图案的优点,从而绝对校准衍射仪的角度标度和成像板的强度标度。

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本文描述了一个利用日本筑波县KEK光子工厂的澳大利亚国家光束设备研究热塑性聚氨酯弹性体结构与应用应变之间关系的系统。该系统使用光束线20B处的矢状聚焦单色仪提供高强度聚焦光束,然后光束落在安装在独特真空衍射仪(BIGDIFF)上的微型张力计中的试样上。成像板用于同时记录特定菌株标本的SAXS和WAXS模式。SAXS和WAXS模式随加载和卸载的变化用十板成像板变换器记录。

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多成像板探测器系统和聚焦单色仪已经开发出来,并成功应用于光子工厂的澳大利亚国家光束线设施。通过掠入射X射线衍射研究金属脂肪酸LB膜中与温度相关的相变,证明了该系统的实用性。

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研制了一种多成像板探测器系统和聚焦单色仪,并成功地应用于通过掠入射X射线衍射(GIXD)对朗缪尔-布罗德盖特薄膜相变的时间分辨研究。这里描述的单色器结合了固定的出射光束高度和第二晶体的矢状聚焦。设计与松下相似等。[松下、石川和小柳(1986)。编号。仪器。方法,A246,377-379],除了实现第一个晶体的运动通过计算机控制的X-Y轴平移台而不是一组凸轮。第二个晶体是安装在四点弯曲机构中的带肋Si(111)晶圆。我们小组首次报道了成像板在GIXD研究中的应用,并证明在确定薄膜结构方面非常成功[Foran,Peng,Steitz,Barnes&Gentle(1996)。朗缪尔,12, 774-777]. 为了扩展该系统的功能,设计并制造了一台成像板相机,该相机可以在光子工厂澳大利亚光束线主衍射仪的真空室内容纳多达13块成像板(40×20 cm)。

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利用X射线反射率和掠入射X射线衍射技术研究了量子阱和量子点半导体器件的结构。这项工作是使用实验室和同步辐射源进行的。同步辐射的使用使得对小样品进行反射率研究成为可能,并确立了对量子限制结构进行成像-掠入射衍射研究的可行性。观察到量子阱和量子点结构中的相互扩散效应、生长在量子点上的覆盖层的无序以及衍射图案随入射角的变化。很明显,X射线反射率和成像掠入射X射线衍射产生了完全不同但互补的信息。

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