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为西卡列洛发现46处引文。

搜索西卡里略,S。世界结晶学家名录

结果1到20,按名称排序:


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经过不同涂层工艺的多孔硅散射的小角度X射线强度的多孔图显示出与预测的恒定渐近行为的偏差。这些偏差归因于涂层的影响。我们为这些薄膜提出了一个恒定的电子密度模型。根据该模型计算的理论散射函数可以估计薄膜厚度、电子密度和每单位支撑面积的涂层分子平均数。

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研究了加工过程中Pt在NaY沸石载体上的烧结通过原位小角度X射线散射表明,铂在还原和成品催化剂中的粒度分布是在煅烧的早期阶段确定的。

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将理想晶体X射线散射相位问题的代数方法推广到中子散射,克服了散射密度非正性的困难。

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结果表明,两个酉结构因子生成了一个双参数Harker-Kasper不等式族,其中最强的一个与三阶行列式Karle-Hauptman不等式一致。

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证明了关联函数的二阶导数与非晶态相关N个-成分样品,在某一点上可能具有一阶不连续性第页0(≠0)仅当界面具有以下几何特性时:存在有限面积例如,单相边界的子集S公司,这样任何一点P(P)1这个距离很远,第页0,从某个角度P(P)2属于另一个边界S公司j个,此外还有细分市场P(P)1P(P)2与两者正交S公司和至S公司j个得到了不连续性的显式积分表达式。指出了这一结果与散射强度分析的相关性,散射强度分析表明系统偏离了Porod-Debye定律。

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本文报告了将Porod定律推广到掠入射下收集的小角度散射强度的条件。

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报道了正八面体各向同性相关函数的二阶导数具有代数形式。

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给出了正四面体和八面体关联函数的代数表达式。

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本文报道了在粒子相关函数为多项式的假设下,由小角度散射强度确定粒子尺寸分布的积分变换。

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线状和薄膜状系统的散射强度分别表现为{校准P}_{校准C}}/q{校准P}_{校准S}}/q^2在散射矢量幅度的中间范围内q个. The{校准P}{\cal P}报告表达式。

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散射密度波动的平均值必须渐近表现为V(V)−1/2在倒数空间原点处存在散射强度极限。

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如果在有限体积上计算傅里叶变换的模,则可以将函数视为物理散射密度波动V(V)并除以V(V)1/2,趋向于有界非零函数V(V)→ ∞ 如果平方极限服从Porod不变关系。

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广角相关函数γ(第页)一个稀释的粒子系统,形状为截短的圆形右锥体,以闭合形式进行计算。贡献的角平均值与第页给出γ′′(0+),关于的三阶导数原点的值第页对应的小角度相关函数。该值与Kirste–Porod公式得出的值不同,因为两个圆边产生了负贡献。此外,γ′′(0+)在圆形右锥体的情况下,结果是发散的。

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γ′的闭式表达式w个(第页),第二部分第页计算了球形颗粒组成的单分散稀体系的广角相关函数的导数。根据此结果,在第页得到了小角度相关函数三阶导数的=0。该值与Kirste–Porod公式得出的值不同积极的贡献,由于圆形边缘。

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结果表明,在原点附近,相关函数[γ(第页)]任何N个-界面由平面刻面组成的组件样本在第页因此,在相关小角度散射强度的渐近展开中,唯一单调递减的项是Porod[−2γ'(0+)/小时4]和Kirste–Porod[4γ(3)(0+)/小时6]捐款。后一种贡献是非零的,因为相间表面的每个顶点都有贡献。一般顶点贡献以闭合形式计算,γ(3)(0+)报告了与正多面体有关的值。

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在推导了稍加修改后样品散射强度之间的线性关系后,我们对煤的流体萃取过程进行了表征。

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对于粉末样品,当界面由平面面组成时,重叠函数为三次函数。给出了Scherrer常数的显式表达式。

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Porod定律指出(小时)理想多相非晶系统散射的X射线强度,对于“大”动量传递值(≡小时)方法小时−4还有那个与相间表面积呈线性关系。得到了一个更一般的表达式,它将原点处相关函数导数的值与沿不连续面电子密度涨落不连续性的积分联系起来。对德拜的假设进行了批判性讨论,即样品的连续电子密度由离散值近似。存在多孔平台时近似结果的有效性[小时4(小时)=常数]。观察到平台的动量传递范围与长度尺度有关,其中尖锐边界理想化基本上保持不变。有人认为散射强度可以显示出不止一个波罗德平台,并报道了与这种行为相关的函数的一些例子。讨论了背景减法的问题,相应的系数与实际样品和相关的锐边样品的电子密度有关。

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举例说明了各向异性多孔定律在椭球体颗粒情况下的应用。

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如果扩散区厚度与平行界面距离之比小于1/4,则当平行界面扩散时,平行界面产生的振荡偏差在多孔图中仍然可见。

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