J.应用。克里斯特。(2014).47,476-481
https://doi.org/10.107/S1600576713031774

溶剂蒸发成膜过程中SAXS-WAXD和涂层厚度同步测量系统的研制

K.Shimokita公司,T.宫崎骏,H.小川和山本K

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