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J.应用。
克里斯特。
(1995).
28
,
707-716
https://doi.org/10.107/S0021889895003657
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用Rietveld轮廓细化法定量测定铁硅合金中的低相体积分数。
中子衍射数据与其他方法的比较
C.盖诺
和
C.仆人
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