1.简介
具有极化同步辐射的软X射线光谱是一种有效的表征技术,已成功应用于物理和生物科学以及材料工程等多个领域(Stöhr,1996; Stöhr&Siegmann,2006年). 令人惊讶的是,许多材料的软X射线光学常数在跨越与吸收边相关的共振的能量范围内并不为人所知。我们在之前的工作中已经证明了这一点(Mertins等人。, 2004; 瓦哈布等人。, 2018)来自吸收光谱和反射光谱的关于样品的信息可以包含独立的和互补的信息。这也可以用于测定光学常数。
由于有机化学在许多应用中的重要性,X射线光谱仪对含碳样品的研究特别感兴趣。在这种情况下,碳1附近的共振秒边缘会导致总电子产额(TEY)光谱中的饱和效应,如果这些效应没有得到纠正,就会扭曲从这些数据中提取的光学常数。碳1附近石墨材料缺乏可靠的光学常数秒自从石墨烯研究问世以来,人们特别感觉到了边缘(诺沃塞洛夫等人。, 2012). 碳1的共振激发秒核心电子到反键轨道可以识别有机分子以及石墨材料系统中碳的电子结构。这包括包含二维石墨烯层的薄膜系统。此外,可以确定偶然或故意吸附在石墨和石墨烯表面的有机基团的键合特性和空间取向(Stöhr,1996); 瓦哈布等人。, 2018). 故意吸附这些分子是石墨烯材料用于生物医学应用的一个重要方面(Jiang,2011); 沈等人。, 2012). 在固体的情况下,软X射线光谱可以进一步提供材料电子能带结构的信息,因为光谱反映了电子态的密度(Stöhr,1996; Stöhr&Siegmann,2006年). 不同类型光谱的探测深度不同,因此对材料的体积敏感和表面敏感研究都是可能的。
软X射线光子的吸收光谱可以用几种方法进行。直接测定吸收横截面对于薄样品,可以进行软X射线的透射测量。大量样品的研究有许多间接方法。这些包括TEY、部分电子产额、荧光、光电子和俄歇电子能谱。使用这些间接方法,需要对观察到的光谱进行操作,以产生X射线光子吸收光谱通过使用合适的理论假设(Stöhr,1996; Stöhr&Siegmann,2006年). 准确的光学常数将有助于模拟结果的再现。
入射软X射线光子的反射通常允许比吸收方法实现的探测深度更深,因为检测到的粒子是能量相对较高的软X射线。与吸收光谱相比,吸收光谱没有这些参数,反射光的偏振和相位携带与材料相互作用的独立信息。在反射时,光的偏振通常会发生变化。例如,这种变化可以提供样品中电磁场的信息。此外,在多层系统的不同介质边界反射的光的干涉敏感地取决于层的厚度。因此,可以根据反射光谱准确地确定此类厚度。
为了解释测量的反射光谱并允许对样品的物理特性进行理论建模折射率材料,即它的光学常数是不可或缺的。光学常数决定了这种材料对软X射线的折射和吸收。为了确定一套完整的光学常数,通常是吸收横截面被解释为复合体的想象部分折射率。吸收横截面通常获得通过电子产额测量。然后,通过对测量的吸收数据进行Kramers–Kronig变换,推导出与折射有关的常数的实部(Stöhr,1996)). 然而,这一过程并不简单,因为探测深度取决于入射角,同一样品的结果可能会相应不同。此外,测量的电子产额与相应的光子吸收之间的关系横截面不一定是线性的。特别是,在靠近吸收边的有趣共振区,光学常数随能量发生剧烈变化,已知测量产量中的饱和效应是有问题的(Henneken等人。, 1999, 2000; 中岛等人。, 1999). 吸收的间接测定通过因此,单靠电子产额测量不一定能给出正确的光学常数集,这些光学常数将正确应用于软X射线的反射。
软X射线光子吸收的正确定量横截面可以通过直接测定与能量相关的吸收常数来实现μ在透射实验中使用薄样品。在这种情况下,强度的入射光我0通过已知厚度的样品传输x个和合成强度我=我0经验(−μx个)可以在样品后面测量。然而,在软X射线范围内,光子吸收横截面如此之大,以至于需要极薄的自支撑薄膜来进行直接测量。在碳的情况下,能量跨越1秒 吸收边缘小于100nm的厚度是必要的。此外,由于薄膜厚度必须众所周知,减小厚度进一步限制了实验精度。
一种更直接的替代方法是检测导电材料大块样品的TEY(Gudat&Kunz,1972; 亨克等人。, 1981). 在这种情况下,可以通过测量光入射时样品的漏电流来可靠地确定TEY。或者荧光产额(FLY)可以测量(Stöhr,1996). 通常,测量的TEY和FLY都与吸收常数的乘积成线性比例μ和光子能量小时ν然而,众所周知,在光子吸收特别强的共振核心能级激发的能量范围内,这种比例并不成立。TEY和FLY均出现饱和,因此两个测量的产率不能正确代表真正的吸收峰。因此,局部观察到的峰值高度不足并不能产生常数μ正确地说,如果从字面上看这个高度,为这些能量推导出的光学常数也是不正确的(中岛等人。, 1999).
在详细讨论TEY和FLY光谱中饱和效应的起源之前,我们列出了一些必要的重要条件,以便一方面可以假设TEY与FLY之间的线性比例,另一方面可以很好地近似假设吸收常数与光子能量的乘积(Henke等人。, 1981; Stöhr,1996年). 线性比例的这些条件是:
(1) 相对于二次电子的产率,可以忽略一次电子的产率。
(2) 与电子逸出长度相比,样品厚度较大L(左).
(3) 与光子相比,样品厚度较大穿透深度1/μ.
(4) 穿透深度1/μ与电子逃逸长度相比很大L(左).
(5) 在TEY测量中,光子反射和荧光可以忽略不计。
如果不满足这五个条件,则会出现影响屈服测量的饱和效应。这在共振能量下变得重要。
中岛等人。(1999年)讨论TEY光谱法在测定光学常数方面的适用性限制,但不建议进行校正程序。然而,其他作者提出了克服饱和效应以获得正确的吸收光谱的建议。
阿奇卡等人。(2011)例如,建立了逆偏导数技术荧光产额光谱学,适用于多原子材料。在该技术中,吸收常数μA类原子的A类是从荧光强度的检测中推断出来的我B类原子的B类.强度我B类与引起激发的光子数成正比,而激发光子数本身与穿透深度1/μA类入射光子的数量。原子类型A类这样就可以像过滤器一样过滤类型的原子B类然而,这种巧妙的技术相当复杂,因为它需要荧光产额用单色仪进行分析。重要的是,该技术不适用于石墨等单原子材料。
Filatova&Sokolov(2018年)提出可以用全外反射光谱法来推导光学常数。在他们的方法中,对测量的反射光谱进行Kramers–Kronig变换,得出吸收系数。然而,这需要满足上述所有五个条件。此外,由于需要2–3°的小掠入射角,该技术对表面极为敏感,需要就地真空室内样品的制备和精确定位。
在本文中,我们提出了另一种方法,将测量的TEY与同时测量的镜面反射光谱进行协调。我们的新程序可以在共振区提供一组可靠的光学常数。特别是,这种方法校正了TEY光谱中的饱和效应,这些饱和效应掩盖了正确的吸收横截面。我们已经演示了高取向热解石墨(HOPG)用于入射软X射线的两种不同线性极化。此外,我们还测定了跨越碳1能量的一组详细的光学常数秒吸收边缘。
在我们的方法中,TEY光谱中的饱和效应是使用自洽程序进行校正的。具体来说二次电子通过入射软X射线光子,M(M),使用从样本的TEY测量中提取的能量相关函数进行建模。这种依赖于能量的效率允许对测量的TEY光谱进行有意义的校正。校正后的TEY光谱表示吸收常数μ在所有能量下都可以重整化,得到复合体的虚部折射率。指数的相应实部可以按常规推导出来通过Kramers–Kronig变换,从而获得一组初步的光学常数。然后,使用菲涅耳方程将初步的光学常数集应用于同一样品的反射光谱计算。通过缩放二次电子产生的效率,将计算的反射光谱调整为与TEY测量同时记录的测量反射光谱。从模拟对反射数据的最佳适应性出发,最终获得一组精细的光学常数。
2.软X射线光学常数测定的自洽程序
图1说明了软X射线光子吸收后材料中的重要相互作用。草图强调了逃逸电子产率的深度依赖性。
| 图1 光子吸收能量后发生的典型相互作用过程示意图小时ν一次电子e一本正经的可能会弹出(左侧),或者二次电子e(电子)秒可以通过电子散射产生(右)。这两个过程的相对重要性取决于材料的深度z(z).随着吸收常数的降低μ1>μ2>μ三这个穿透深度1/μ光子的增加和次级逃逸比初级电子也会增加。电子逃逸长度L(左)图示供参考。 |
2.1. 总可观测电子产额
X射线吸收横截面通常被认为与光子撞击材料产生的核心孔数量成比例(Stöhr,1996; Stöhr&Siegmann,2006年). 被激发的核心电子可以被直接射出,也可以形成激子在材料中,即移动电子-空穴对。核心洞的填充主要导致俄歇电子的发射,这一过程对于石墨等轻材料来说,大约比其他荧光衰减强100倍。由于散射过程初级电子倾向于产生低能量的级联二次电子(图1). 当初始交互发生在深度z(z)小于典型逃逸长度L(左),二次电子可以离开样品表面,并且可以在电子产额的测量中检测到。
的数量二次电子每次入射的光子通常与能量的乘积成正比小时ν入射光子与材料常数的关系M(M)它表示了将能量转换为二次电子(Stöhr,1996)). 相反的∊= 1/M(M)因此,表示产生单个二次电子所需的平均能量,该二次电子能够逃逸样品,从而有助于电子产额谱。假设M(M)是恒定的,与入射X射线光子的能量无关,也忽略了初级电子良好假设[见上述条件(1)],表示TEYη和吸收常数μ成线性比例。
现在可以考虑电子数dN个z(z)在间隔d内创建z(z)在深度z(z)在宏观厚样品中。深度处每个入射光子的电子产额z(z)则为dηz(z)=天N个z(z)/我0吸收定律可以写成(Stöhr,1996; 中岛等人。, 1999; 桑恩等人。, 2009)
哪里x个=z(z)/科斯θ是材料内入射光子的路径长度θ是相对于曲面法线的入射角。
逃逸概率二次电子随着离样品表面的距离呈指数级减小。因此二次电子逃逸并对TEY有贡献的每吸收入射光子由下式给出
在这里L(左)是电子的逃逸长度。创造的效率二次电子每入射光子由以下项表示小时νM(M)(Stöhr,1996)). 材料表面的反射率等于R(右)在软X射线范围内,反射率通常可以忽略为大掠入射角,此后R(右)≃ 0. 这种近似在入射角下通常适用θ>80°,也由上述条件(5)表示,该条件将在本考虑中假设。样品厚度上的积分,与光子相比较大穿透深度[见条件(3)],给出了TEY(Henneken等人。, 2000)作为
如果TEYη假设与吸收常数的乘积成线性比例μ和光子能量小时ν。然后它会显示
方程式(3一)清楚地表明产品的比例μ·小时ν和TEYη仅针对以下情况给出M(M)和L(左)两者都与光子能量无关。其次,只有当μL(左)/科斯θ≃ 0. 这是条件(4)的数学表达式。
任何对M(M)关于光子能量小时ν可能会导致偏离比例。这尤其发生在光子共振吸收占主导地位的能量上。为了实现有效校正M(M)= 1/∊以及术语1/(1)的作用+μL(左)/科斯θ)因此,将在下一节中明确考虑。
为了完整性,可以注意到,对于厚度较薄的样品d日,条件(2)和(3)未满足,并且TEYη由更复杂的表达式给出
该方程等价于方程(3一)适用于厚样品,其中d日与电子逃逸深度相比很大L(左)而且相对于穿透深度光线的(d日 1/μ).
2.2. 光学常数
由于复杂折射率与光的折射和吸收有关,同时测量反射和吸收可以提供一组可靠的完整光学常数,如果吸收光谱通过校正电子产额数据中的饱和效应来准确建立。
2.2.2、。反射光谱
光子的镜面反射是核心电子的虚拟激发和去激发的结果。一旦知道一整套光学常数,就可以使用菲涅耳方程来模拟反射光谱(Born&Wolf,1959). 如§2.2.1所述上面,假设TEY和吸收常数成正比,最初从测量的TEY光谱中提取一组初步的光学常数μ如方程式(7)所示一).
利用这些初步的光学常数,对本工作中使用的实验条件下的反射光谱进行了模拟。然后,通过自适应迭代减少了模拟与反射数据(与TEY测量一起记录)之间的差异。在这种模拟适应中,方程式(7b条)和(7c(c))考虑了平均创造能量∊被选中是为了达成最佳协议。特别是,考虑了能量依赖性。将导致模拟反射数据和测量反射数据之间最佳一致性的光学常数作为一个详细的集合。
因此,我们新程序的强度来自两个独立实验测量的协调,即TEY和反射率的同时测定。此外,除了对复合物进行可靠测定外折射率,该程序还确定了在材料中产生二次电子所需的平均能量的能量依赖性。
3.实验装置
在BESSY(Weiss)的Apple型波动光束线UE56-2-PGM2上进行了室温实验等人。, 2001). 280eV附近的光谱分辨率为E类/ΔE类=2000,绝对能量校准精度优于0.1 eV。
样品为镶嵌度为0.4°的HOPG。在引入测量室真空之前,真空度为2×10−9 mbar,从样品中切下一条材料,以获得原始表面。光束与样品表面的掠射角始终为20.4°。样品围绕光束轴的旋转允许散射平面。测量期间散射面样品的入射线偏振光的电场矢量在散射面(第页-几何图形)或与之垂直(秒-几何图形)。线性极化度为P(P)L(左)>0.99,根据Schäfers描述的方法确定等人。(1999年).
通过使用Keithley皮安计(6482型)记录HOPG样品的漏电流,测量入射光束产生的TEY。使用哈马松GaAs:P二极管(Krumrey等人。, 1988). 由于HOPG样品和二极管可以移动就地在使用外部控制的真空条件下,可以使用相同的二极管测量入射光和反射光。这允许确定绝对镜面反射。有关测量设置和使用的标准化程序的更多详细信息已在之前发布(Jansing等人。, 2016).
4.结果
TEY系列η用测量第页-几何图形和秒-几何结构分别如图2所示。这两种散射几何体对应于极化方向和表面法线的两种不同相对方向。对于第页-对于小的掠射角,偏振方向几乎与曲面法线对齐。在以下情况下秒-相反,几何形状、偏振方向和曲面法线是正交的。
| 图2 TEY系列η通过碳1测量秒 吸收边缘用于HOPG样本。使用线偏振光X射线已获得以下结果第页-(填充符号)和秒-几何图形(开放符号)。入射角为θ= 69.6°. |
在测量的TEY光谱中激子285.1 eV下的共振(π-共振)和291.5 eV(σ-共振),以更高的能量伴随着向导带。由于HOPG在引入真空之前被裂解,因此仅观察到由于不定吸附质而产生的微不足道的信号秒-288 eV附近的几何形状。这表明HOPG表面的原始质量。
5.结论
我们提出了一种新的基于数据的方法来确定软X射线范围内的光学常数,该方法可以协调同一样品的同时电子产额和反射测量。开发了一种迭代校正程序,该程序考虑了次级电子。此外,还引入了这种效率的能量依赖性。这一点很重要,因为光子吸收深度在吸收边缘附近的能量上变化很大。导出的校正补偿了吸收光谱和电子产额光谱之间的比例关系的观测偏差。在共振峰值处补偿最大。
已经发现,创造效率的能量依赖性二次电子由测量的电子产额谱很好地表示。HOPG产生电子的相关平均能量是通过碳1秒 吸收边缘大致按照∊=100 eV。这与其他人确定的黄金和铜的价值很好地比较光电子能谱,哪些外部共振区域是∊=64电子伏特∊分别=26 eV。靠近碳1的HOPG值较大秒吸收共振表明,在这些能量下二次电子已创建。这与相同能量下光子吸收深度的减少是一致的。因此,相当多的初级电子在物质生成之前逃逸二次电子 通过散射过程。
重要的是,创建的效率二次电子被发现与极化有关。对于线偏振光入射秒-几何结构,在σ-共振能量,电子产生的平均能量明显低于入射光第页-几何结构,有利于激发核心电子π-共振。这可以半经典地理解,因为初级电子从材料上看第页-几何图形。在这种情况下,电场矢量的方向与曲面法线有效对齐。
本工作中确定的整套光学常数也适用于其他石墨碳同素异形体,如石墨烯,在描述含有碳质层的多层系统时很有用。该新程序已成功用于HOPG。然而,它也可以用于其他材料。该程序可以在跨越吸收边的能量处提供可靠的光学常数,其中通常包含有关折射率缺少元素选择性光谱分析所需的信息。
资金筹措信息
已确认以下资金:Deutscher Akademischer Autauschdienst(批准号:56270051;批准号:57215199)。柏林亥姆霍兹中心的技术和财政支持也得到了认可。
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