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应用
结晶学

第15卷| 第4部分

国际标准编号：1600-5767

1982年8月号

突出显示的插图

主要文章

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中子和X射线粉末衍射中的Rietveld方法

A.阿尔比纳蒂和B.T.M.威利斯

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研究论文

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使用测量的光束和晶体倾斜精确测定晶格常数

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（Cr，Fe，Al，Mg）中的阳离子原子分布_三O（运行）₄电子诱导X射线发射沟道效应揭示的尖晶石

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一种微处理器控制的连续流动低温恒温器，用于10–300 K范围内的单晶X射线衍射

S.艾伦,J.科西尔,A.M.格雷泽,T.J.黑斯廷斯,D.T.史密斯和I.G.木材

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EXAFS光谱中的噪声级和分辨率效应

T.I.莫里森,G.K.Shenoy公司和D.尼尔科斯

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超高真空加热摄像机就地同步辐射X射线形貌研究

J.加斯塔尔迪,C.乔丹,P.马尔佐,C.过敏和朱利安

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关于化学蚀刻的形貌（00 $\上划线{1}$ )ZnO表面

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X射线衍射法动态测定类胡萝卜素的自氧化作用：一种新的快速可靠的方法

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低温粉末衍射仪用低熔点固化气体的样品制备

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用非对称布拉格反射评价晶体完整性

M.沃兹（M.Wołcyrz）和K.乌卡泽维奇

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X射线同步加速器地形图的高温变形阶段。硅中位错机制的应用

A.乔治和G.米肖

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克里斯托运河源头

E.斯坎代尔和A.扎尔卡

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用X射线形貌术测定晶体中孔洞和夹杂物周围的应变集中系数

J.乔杜里,Z.H.卡尔曼,G.J.翁和S.魏斯曼

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Rietveld细化中的轮廓形状函数

R.A.杨和D.B.怀尔斯

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小分子晶体结构的交互式计算机显示与分析

S.M.斯旺森,R.E.罗森菲尔德Jnr和E.F.Meyer Jnr公司

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脉冲中子源的小角度散射：与稳态反应堆的比较

C.S.博索,J.M.卡彭特,F.S.威廉姆森,G.L.Holmblad先生,M.H.米勒,J.Faber Jnr公司,J.E.Epperson公司和S.S.Danyluk公司

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定量X射线衍射分析优化补遗

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非晶态TbFe的结构有序₂和YFe₂

P.D’Antonio先生,J.H.科纳特,J.J.雷恩和C.R.哈伯德

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短通信

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α-HgI的热膨胀₂

S.Gauthier公司和I.F.尼古拉

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晶体数据

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溶液固体练习（CH_三)₄N.锰_1−x个铜_x个氯_三(x个=0–0,5)

A.谢赫·鲁侯和A.达乌德

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计算机程序

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从空间群符号导出对称运算的计算机程序

H.伯兹拉夫和A.洪塔斯

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交互式动态分子显示器

C.L.尼克斯和B.鲁宾

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实验室札记

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大单晶测角仪

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晶体学家

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结晶仪

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国际结晶学联合会

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数学晶体学参考文献

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书评

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材料的无损评估编辑：J.J.Burke和V.Weiss

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新闻和工作

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