相关文献
相关文献见:林等。(2006); 郑等。(2006).
支持信息
CdSO公司40.8/3小时2O(0.128 g,0.5 mmol),(4-甲苯磺酰基)乙酸(0.091 g,0.5 mm ol),4,4'-bipy(0.039 g,0.25 mm ol)和H2将O(18ml)密封在具有聚四氟乙烯内衬不锈钢反应器的25ml不锈钢反应器中,并将溶液在433K下加热72小时,然后在72小时内冷却至室温。获得适合X射线分析的无色晶体。
允许甲基旋转以适应电子密度[C-H=0.96º和U型国际标准化组织(H) =1.5U型等式(C) ];其他H原子被几何定位[芳香族C-H=0.93º和脂肪族C-H=0.97º,U型国际标准化组织(H) =1.2U型等式(C) ]。水氢原子H1WA被几何定位,O-H=0.82 Au,其他水氢原子H2WB由差分Fourier图定位,并用O-H=0.85(2)Au和H··H=1.30(2)Ye的距离约束对其进行细化;它们的位移参数设置为1.5U型等式(O) ●●●●。
数据收集:4月2日(布鲁克,2006);细胞精细化: 圣保罗(布鲁克,2006);数据缩减:圣保罗(布鲁克,2006);用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008);用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008)。
链-聚[[二夸[(4-甲苯磺酰基)乙缩醛-κO(运行)]镉(II)]-µ-4,4'-联吡啶-κ2N个:N个']顶部 水晶数据 顶部 [镉(C9H(H)9O(运行)2S)2(C)10H(H)8N个2)(H)2O)2] | F类(000) = 1360 |
M(M)第页= 667.09 | D类x个=1.589毫克−三 |
单诊所,C类2/c(c) | 钼K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å |
大厅符号:-C 2yc | 7745次反射的细胞参数 |
一= 21.659 (4) Å | θ= 2.7–27.5° |
b条= 11.590 (2) Å | µ=0.98毫米−1 |
c(c)= 11.137 (2) Å | T型=296千 |
β= 93.88 (3)° | 块,无色 |
V(V)= 2789.3 (9) Å三 | 0.40×0.35×0.17毫米 |
Z= 4 | |
数据收集 顶部 Bruker APEXII区域探测器 衍射仪 | 3154个独立反射 |
辐射源:细焦点密封管 | 2937次反射我> 2σ(我) |
石墨单色仪 | R(右)整数= 0.017 |
ω扫描 | θ最大值= 27.5°,θ最小值= 2.7° |
吸收校正:多扫描 (SADABS公司; 谢尔德里克,1996) | 小时=−27→27 |
T型最小值= 0.68,T型最大值= 0.85 | k个=−14→14 |
12185测量反射 | 我=−14→14 |
精炼 顶部 优化于F类2 | 主原子位置定位:结构-变量直接方法 |
最小二乘矩阵:完整 | 二次原子位置:差分傅里叶映射 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.032 | 氢站点位置:从邻近站点推断 |
水风险(F类2) = 0.112 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
S公司= 1.12 | w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.0658P(P))2+ 5.8321P(P)] 哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3 |
3154次反射 | (Δ/σ)最大值< 0.001 |
184个参数 | Δρ最大值=0.60埃−三 |
3个约束 | Δρ最小值=−0.37埃−三 |
水晶数据 顶部 [镉(C9H(H)9O(运行)2S)2(C)10H(H)8N个2)(H)2O)2] | V(V)= 2789.3 (9) Å三 |
M(M)第页= 667.09 | Z= 4 |
单诊所,C类2/c(c) | 钼K(K)α辐射 |
一= 21.659 (4) Å | µ=0.98毫米−1 |
b条= 11.590 (2) Å | T型=296千 |
c(c)= 11.137 (2) Å | 0.40×0.35×0.17毫米 |
β= 93.88 (3)° | |
数据收集 顶部 Bruker APEXII区域探测器 衍射仪 | 3154个独立反射 |
吸收校正:多扫描 (SADABS公司; 谢尔德里克,1996) | 2937次反射我> 2σ(我) |
T型最小值= 0.68,T型最大值= 0.85 | R(右)整数= 0.017 |
12185测量反射 | |
精炼 顶部 R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.032 | 3个约束 |
水风险(F类2) = 0.112 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
S公司= 1.12 | Δρ最大值=0.60埃−三 |
3154次反射 | Δρ最小值=−0.37埃−三 |
184个参数 | |
特殊细节 顶部 几何图形.所有e.s.d.(除了两个l.s.平面之间二面角中的e.s.d.)均使用全协方差矩阵进行估计。在估计e.s.d.的距离、角度和扭转角时,单独考虑单元e.s.d;只有当e.s.d.的胞内参数由晶体对称性定义时,才使用它们之间的相关性。单元e.s.d.的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。 |
精炼.改进F类2对抗所有反射。加权R(右)-因子水风险和贴合度S公司基于F类2,常规R(右)-因素R(右)基于F类,使用F类负值设置为零F类2。的阈值表达式F类2>σ(F类2)仅用于计算R(右)-因子(gt)等.与选择反射进行细化无关。R(右)-因素基于F类2在统计上大约是基于F类、和R(右)-基于所有数据的因素将更大。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部 | x个 | 年 | z(z) | U型国际标准化组织*/U型等式 | |
抄送1 | 0 | 0.05131 (2) | 0.2500 | 0.03198 (12) | |
S1(第一阶段) | 0.14880 (4) | 0.21253 (9) | −0.05125 (7) | 0.0514 (2) | |
O1公司 | 0.08144 (10) | 0.05635 (16) | 0.1325 (2) | 0.0353 (5) | |
O1瓦 | 0.06445 (12) | 0.0644 (2) | 0.4169 (2) | 0.0415 (5) | |
H1WA公司 | 0.0990 | 0.0836 | 0.3982 | 0.062* | |
H1WB公司 | 0.0700 (14) | 0.012 (3) | 0.464 (3) | 0.047 (11)* | |
氧气 | 0.15198 (12) | 0.1218 (3) | 0.2705 (2) | 0.0632 (8) | |
N1型 | 0 | −0.1422 (3) | 0.2500 | 0.0290 (6) | |
氮气 | 0 | −0.7537 (3) | 0.2500 | 0.0303 (7) | |
C1类 | 0.16190 (13) | 0.3534 (3) | 0.0059 (3) | 0.0422 (7) | |
指挥与控制 | 0.19048 (16) | 0.3817 (4) | 0.1177 (3) | 0.0506 (9) | |
过氧化氢 | 0.2025 | 0.3234 | 0.1717 | 0.061* | |
C3类 | 0.20102 (17) | 0.4945 (4) | 0.1488 (3) | 0.0544 (9) | |
H3A型 | 0.2210 | 0.5109 | 0.2234 | 0.065* | |
补体第四成份 | 0.18302 (16) | 0.5854 (4) | 0.0730 (3) | 0.0520 (8) | |
C5级 | 0.15375 (18) | 0.5566 (3) | −0.0382 (3) | 0.0508 (9) | |
H5A型 | 0.1407 | 0.6152 | −0.0910 | 0.061* | |
C6级 | 0.14372 (16) | 0.4440 (3) | −0.0715 (3) | 0.0469 (9) | |
H6A型 | 0.1245 | 0.4275 | −0.1468 | 0.056* | |
抄送7 | 0.1952 (2) | 0.7075 (5) | 0.1109 (4) | 0.0714 (12) | |
早上7点 | 0.2389 | 0.7186 | 0.1271 | 0.107* | |
H7B型 | 0.1742 | 0.7236 | 0.1822 | 0.107* | |
H7C型 | 0.1803 | 0.7586 | 0.0476 | 0.107* | |
抄送8 | 0.17850 (15) | 0.1165 (4) | 0.0670 (3) | 0.0495 (8) | |
H8A型 | 0.1879 | 0.0426 | 0.0316 | 0.059* | |
H8B型 | 0.2169 | 0.1481 | 0.1029 | 0.059* | |
C9级 | 0.13410 (13) | 0.0967 (3) | 0.1664 (3) | 0.0385 (6) | |
C10号机组 | −0.02550 (18) | −0.2021 (3) | 0.3350 (3) | 0.0470 (8) | |
H10A型 | −0.0435 | −0.1619 | 0.3959 | 0.056* | |
C11号机组 | −0.02676 (18) | −0.3207 (3) | 0.3379 (3) | 0.0441 (8) | |
H11A型 | −0.0457 | −0.3584 | 0.3992 | 0.053* | |
第12项 | 0 | −0.3838 (3) | 0.2500 | 0.0259 (7) | |
第13页 | 0 | −0.5111 (3) | 0.2500 | 0.0250 (7) | |
第14项 | −0.02533 (15) | −0.5744 (3) | 0.3404 (3) | 0.0357 (6) | |
高度14a | −0.0432 | −0.5363 | 0.4029 | 0.043* | |
第15项 | −0.02423 (15) | −0.6931 (3) | 0.3382 (3) | 0.0365 (6) | |
高度15a | −0.0410 | −0.7331 | 0.4006 | 0.044* | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
抄送1 | 0.03971 (19) | 0.02551 (18) | 0.03160 (18) | 0 | 0.00893 (12) | 0 |
S1(第一阶段) | 0.0526 (5) | 0.0682 (6) | 0.0343 (4) | −0.0107 (4) | 0.0090 (3) | 0.0052 (4) |
O1公司 | 0.0353 (11) | 0.0355 (11) | 0.0362 (11) | −0.0019 (7) | 0.0104 (9) | −0.0040 (8) |
O1瓦 | 0.0525 (13) | 0.0448 (12) | 0.0281 (10) | 0.0011 (10) | 0.0085 (9) | 0.0047 (9) |
氧气 | 0.0444 (13) | 0.107 (2) | 0.0385 (13) | −0.0222 (15) | 0.0024 (10) | 0.0066 (14) |
N1型 | 0.0354 (16) | 0.0245 (15) | 0.0280 (15) | 0 | 0.0076 (13) | 0 |
氮气 | 0.0364 (16) | 0.0283 (16) | 0.0272 (15) | 0 | 0.0089 (13) | 0 |
C1类 | 0.0259 (13) | 0.071 (2) | 0.0310 (14) | −0.0051 (13) | 0.0104 (11) | 0.0042 (14) |
指挥与控制 | 0.0409 (16) | 0.080 (3) | 0.0311 (15) | −0.0024 (17) | 0.0043 (12) | 0.0064 (16) |
C3类 | 0.0416 (17) | 0.088 (3) | 0.0336 (16) | −0.0069 (19) | 0.0047 (13) | −0.0062 (18) |
补体第四成份 | 0.0392 (16) | 0.074 (2) | 0.0447 (18) | −0.0076 (17) | 0.0169 (14) | −0.0093 (18) |
C5级 | 0.0455 (19) | 0.068 (3) | 0.0399 (18) | 0.0016 (15) | 0.0091 (15) | 0.0059 (15) |
C6级 | 0.0368 (16) | 0.074 (3) | 0.0302 (15) | −0.0021 (14) | 0.0025 (12) | 0.0062 (14) |
抄送7 | 0.070 (3) | 0.080 (3) | 0.066 (3) | −0.010 (2) | 0.023 (2) | −0.014 (2) |
抄送8 | 0.0342 (15) | 0.067 (2) | 0.0492 (18) | 0.0037 (15) | 0.0146 (13) | 0.0072 (16) |
C9级 | 0.0321 (13) | 0.0426 (16) | 0.0417 (16) | 0.0027 (12) | 0.0084 (12) | 0.0068 (13) |
C10号机组 | 0.073 (2) | 0.0307 (15) | 0.0411 (16) | 0.0028 (15) | 0.0315 (16) | −0.0034 (13) |
C11号机组 | 0.069 (2) | 0.0292 (14) | 0.0374 (15) | 0.0012 (14) | 0.0306 (15) | 0.0021 (12) |
第12项 | 0.0284 (16) | 0.0253 (17) | 0.0245 (16) | 0 | 0.0048 (13) | 0 |
第13页 | 0.0260 (16) | 0.0236 (17) | 0.0259 (16) | 0 | 0.0047 (13) | 0 |
第14项 | 0.0510 (17) | 0.0298 (13) | 0.0289 (13) | −0.0056 (12) | 0.0207 (12) | −0.0053 (11) |
第15项 | 0.0506 (16) | 0.0293 (14) | 0.0320 (13) | −0.0068 (12) | 0.0198 (12) | −0.0030 (11) |
几何参数(λ,º) 顶部 Cd1-N1号 | 2.243 (3) | C4-C5型 | 1.393 (5) |
Cd1-O1W号 | 2.253 (2) | C4至C7 | 1.495 (6) |
Cd1-O1W号我 | 2.253 (2) | C5至C6 | 1.371 (5) |
Cd1-N2ii(ii) | 2.259 (3) | C5-H5A型 | 0.9300 |
Cd1-O1号机组 | 2.267 (2) | C6-H6A型 | 0.9300 |
Cd1-O1号机组我 | 2.267 (2) | C7-H7A型 | 0.9600 |
S1-C1号机组 | 1.769 (4) | C7-H7B型 | 0.9600 |
S1-C8号机组 | 1.809 (4) | C7-H7C型 | 0.9600 |
O1-C9型 | 1.266 (4) | C8-C9型 | 1.532 (4) |
O1W至H1WA | 0.8200 | C8-H8A型 | 0.9700 |
O1W-H1WB型 | 0.805 (17) | C8-H8B型 | 0.9700 |
氧气-C9 | 1.232 (4) | C10-C11号机组 | 1.375 (4) |
N1-C10型我 | 1.325 (3) | C10-H10A型 | 0.9300 |
N1-C10型 | 1.325 (3) | C11-C12号机组 | 1.381 (3) |
N2-C15型 | 1.343 (3) | C11-H11A型 | 0.9300 |
N2-C15型我 | 1.343 (3) | C12-C11号机组我 | 1.381 (3) |
N2-Cd1型三 | 2.259 (3) | C12-C13型 | 1.475 (5) |
C1-C2类 | 1.391 (5) | C13至C14我 | 1.389 (3) |
C1-C6号机组 | 1.398 (5) | C13至C14 | 1.389 (3) |
C2-C3型 | 1.367 (7) | C14-C15号 | 1.376 (4) |
C2-H2A型 | 0.9300 | C14-H14A型 | 0.9300 |
C3-C4型 | 1.389 (6) | C15-H15A型 | 0.9300 |
C3-H3A型 | 0.9300 | | |
| | | |
N1-Cd1-O1W型 | 93.87 (6) | C6-C5-H5A型 | 119.2 |
N1-Cd1-O1W型我 | 93.87 (6) | C4-C5-H5A型 | 119.2 |
O1W-Cd1-O1W我 | 172.26 (12) | C5-C6-C1 | 121.0 (3) |
N1-Cd1-N2ii(ii) | 180 | C5-C6-H6A | 119.5 |
O1W-Cd1-N2ii(ii) | 86.13 (6) | C1-C6-H6A型 | 119.5 |
O1瓦我-Cd1-N2ii(ii) | 86.13 (6) | C4-C7-H7A型 | 109.5 |
N1-Cd1-O1号机组 | 91.48 (5) | C4-C7-H7B型 | 109.5 |
O1W-Cd1-O1型 | 90.67 (9) | H7A-C7-H7B型 | 109.5 |
O1瓦我-Cd1-O1号机组 | 89.13 (9) | C4-C7-H7C型 | 109.5 |
氮气ii(ii)-Cd1-O1号机组 | 88.52 (5) | H7A-C7-H7C型 | 109.5 |
N1-Cd1-O1号机组我 | 91.48 (5) | H7B-C7-H7C | 109.5 |
O1W-Cd1-O1型我 | 89.13 (9) | C9-C8-S1型 | 114.1 (2) |
O1瓦我-Cd1-O1号机组我 | 90.67 (9) | C9-C8-H8A | 108.7 |
氮气ii(ii)-Cd1-O1号机组我 | 88.52 (5) | S1-C8-H8A型 | 108.7 |
O1-Cd1-O1型我 | 177.04 (10) | C9-C8-H8B | 108.7 |
C1-S1-C8 | 105.40 (18) | S1-C8-H8B型 | 108.7 |
C9-O1-Cd1 | 123.9 (2) | H8A-C8-H8B | 107.6 |
Cd1-O1W-H1WA | 109.5 | O2-C9-O1 | 126.0 (3) |
Cd1-O1W-H1WB | 123 (3) | 氧气-C9-C8 | 118.2 (3) |
H1WA-O1W-H1WB | 105.7 | O1-C9-C8 | 115.9 (3) |
C10号机组我-N1-C10型 | 116.8 (4) | N1-C10-C11号机组 | 123.4 (3) |
C10号机组我-N1-Cd1号机组 | 121.62 (18) | N1-C10-H10A | 118.3 |
C10-N1-Cd1 | 121.62 (18) | C11-C10-H10A型 | 118.3 |
C15-N2-C15型我 | 116.8 (4) | C10-C11-C12号机组 | 120.2 (3) |
C15-N2-Cd1三 | 121.58 (18) | C10-C11-H11A型 | 119.9 |
第15项我-N2-Cd1型三 | 121.58 (18) | C12-C11-H11A型 | 119.9 |
C2-C1-C6 | 117.7 (4) | C11号机组我-C12-C11号机组 | 116.0 (4) |
C2-C1-S1型 | 126.2 (3) | C11号机组我-C12-C13型 | 122.02 (18) |
C6-C1-S1型 | 116.1 (3) | C11-C12-C13型 | 122.02 (18) |
C3-C2-C1 | 120.6 (4) | 第14项我-C13至C14 | 116.2 (3) |
C3-C2-H2A | 119.7 | 第14项我-C13-C12号机组 | 121.89 (17) |
C1-C2-H2A | 119.7 | C14-C13-C12 | 121.89 (17) |
C2-C3-C4型 | 122.4 (3) | C15-C14-C13型 | 120.4 (3) |
C2-C3-H3A型 | 118.8 | C15-C14-H14A | 119.8 |
C4-C3-H3A型 | 118.8 | C13-C14-H14A | 119.8 |
C3-C4-C5型 | 116.8 (4) | N2-C15-C14型 | 123.0 (3) |
C3-C4-C7型 | 120.6 (4) | N2-C15-H15A | 118.5 |
C5-C4-C7 | 122.6 (4) | C14-C15-H15A型 | 118.5 |
C6-C5-C4 | 121.5 (4) | | |
对称代码:(i)−x个,年,−z(z)+1/2; (ii)x个,年+1,z(z); (iii)x个,年−1,z(z). |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···一 | D类-H(H) | H(H)···一 | D类···一 | D类-H(H)···一 |
O1公司W公司-上半年华盛顿州···氧气 | 0.82 | 1.94 | 2.667 (4) | 148 |
O1公司W公司-上半年世界银行···O1iv(四) | 0.81 (2) | 2.04 (2) | 2.782 (3) | 154 (4) |
实验细节
水晶数据 |
化学配方 | [镉(C9H(H)9O(运行)2S)2(C)10H(H)8N个2)(H)2O)2] |
M(M)第页 | 667.09 |
晶体系统,空间组 | 单诊所,C类2/c(c) |
温度(K) | 296 |
一,b条,c(c)(Å) | 21.659 (4), 11.590 (2), 11.137 (2) |
β(°) | 93.88 (3) |
V(V)(Å三) | 2789.3 (9) |
Z | 4 |
辐射类型 | 钼K(K)α |
µ(毫米−1) | 0.98 |
晶体尺寸(mm) | 0.40 × 0.35 × 0.17 |
|
数据收集 |
衍射仪 | Bruker APEXII区域探测器 衍射仪 |
吸收校正 | 多重扫描 (SADABS公司; 谢尔德里克,1996) |
T型最小值,T型最大值 | 0.68, 0.85 |
测量、独立和 观察到的[我> 2σ(我)]反射 | 12185, 3154, 2937 |
R(右)整数 | 0.017 |
(罪θ/λ)最大值(Å−1) | 0.650 |
|
精炼 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司 | 0.032, 0.112, 1.12 |
反射次数 | 3154 |
参数数量 | 184 |
约束装置数量 | 三 |
氢原子处理 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
Δρ最大值, Δρ最小值(eó)−三) | 0.60,−0.37 |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···一 | D类-H(H) | H(H)···一 | D类···一 | D类-H(H)···一 |
O1W-H1WA··O2 | 0.82 | 1.94 | 2.667 (4) | 147.5 |
O1W-H1WB··O1我 | 0.805 (17) | 2.04 (2) | 2.782 (3) | 154 (4) |