Morphological Stability of Epitaxial Thin Elastic Films by Van Der Waals Force

doi:10.1007/s004190100194

IMECH-IR公司 > 力学所知识产出(1956-2008)

	范德华力作用下外延弹性薄膜的形态稳定性
	赵YP（音）;赵永平（再版作者），中国科学院机械研究所国家重点实验室非线性力学，北京100080，中国人民共和国。
源出版物	应用力学档案
	2002
体积	72 问题：1 页：77-84
国际标准编号	0939-1533
摘要	本文讨论了在范德华力作用下衬底上外延弹性薄膜的形态稳定性。发现只有哈默克常数为负（A<0）的范德瓦尔斯力才有利于薄膜的稳定，哈默克系数的下限也适用于薄膜的稳定性。波动波长的临界值是薄膜厚度和外部应力的函数。表面质量扩散的特征时间尺度为扰动波长的四次方。
主题领域	力学
DOI程序	2007年10月7日/004190100194
编入索引者	SCI公司;工程安装
语言	英语
工单ID	工单：000173782600005
WOS研究领域	机械
WOS主题	机械
引文统计	引用次数：17[工单] 【WOS记录】【WOS中相关记录】
文档类型	期刊论文
标识符	网址：http://dspace.emc.ac.cn/handle/311007/16779
收藏	力学所知识产出(1956-2008)
通讯作者	赵永平（再版作者），中国科学院机械研究所国家重点实验室非线性力学，北京100080，中国人民共和国。
推荐引文 GB/T 7714	Zhao YP、Zhao、YP。范德华力作用下外延弹性薄膜的形态稳定性[J]。应用力学档案，2002,72,1，：77-84。
亚太地区	赵亚溥,&YP赵。(2002).范德华力作用下外延弹性薄膜的形态稳定性。应用力学档案,72(1),77-84.
MLA公司	赵亚溥,等，《范德瓦尔斯力作用下外延弹性薄膜的形态稳定性》。应用力学档案72.1(2002):77-84.

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